氧空位
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解锁催化新范式:晶格氧反应机理(MVK/LOM)与活性调控全解析
说明:本文华算科技介绍了晶格氧与氧空位的概念、晶格氧参与反应的机理(包括热催化氧化的MVK机理、电化学晶格氧介导机制以及高级氧化中晶格氧活化的机制)、晶格氧活性调控策略(非活性A位…
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如何构建空位?缺陷工程中的电子/几何调控与性能提升机制解析
说明:构建空位是电催化中关键的缺陷工程策略,通过电子结构调控(引入缺陷能级、调节d带中心)、几何结构优化(增加低配位活性中心、提升比表面积)及反应动力学促进(降低能垒、稳定中间…
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基于理论计算的氧空位调控策略:从晶格缺陷设计到催化性能优化
调控氧空位是材料科学与化学工程领域中一个极具潜力的研究方向,尤其在金属氧化物材料中,氧空位的引入和调控可以显著提升材料的催化性能、电化学性能、光催化性能等。 本文华算科技将从氧空位…
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怎样调控氧空位?CeO₂/TiO₂掺杂技术、气氛/温度调控策略与CO₂RR催化应用
调控氧空位是材料科学和催化化学中的一个重要研究方向,尤其在氧化铈(CeO₂)、过渡金属氧化物、半导体材料等领域具有广泛的应用前景。 氧空位的调控不仅能够显著改变材料的物理化学性质,…
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CeO2能做什么计算? 从表面缺陷、反应特性到电子调控的理论解析
CeO₂的理论计算聚焦表面结构与缺陷、吸附及反应特性、电子调控等。通过DFT等方法解析氧空位形成能的晶面依赖性,量化吸附能与中间体稳定性,揭示电子结构调控机制;动力学模拟结合过…
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什么是氧空位?
氧空位(Oxygen Vacancy, OV)是金属氧化物材料中一种常见的点缺陷,其定义为在晶体结构中原本应有氧原子的位置缺失,形成空位。 这种缺陷通常由特定的外界环境(如高温、还…
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氧化铈中的活性位点有哪些?
氧化铈(CeO2)是一种具有广泛应用前景的稀土氧化物,其在催化、材料科学、能源转换和环境治理等领域中扮演着重要角色。氧化铈的活性位点是其催化性能的核心,这些活性位点不仅决定了其在不…
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氧空位构筑与表征全解析:方法学探索、谱学技术与原子成像应用
说明:本文全面介绍了氧空位的定义、构筑方法及表征手段。文章详细阐述了高温氢化、掺杂、高能粒子轰击等构筑方法的原理及优缺点,并对比了X射线光电子能谱、拉曼光谱、正电子湮没谱等谱学表征…
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电催化活性:氧空位的核心作用、可控构建与精准表征
说明:这篇文章全面解析了氧空位(Ov,Oxygen vacancy)在电催化中的关键作用、制造策略与表征方法。其内容涵盖了氧空位如何提升材料电导率、改变电子结构、增强催化活性及调节…
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LOM vs AEM:深度解析OER中晶格氧机制的理论核心与材料创新
说明:本文将从基础原理到前沿应用,剖析LOM的理论研究意义、机制原理、材料设计策略,为理解这一突破性机制提供全面视角。 析氧反应(OER)中传统的吸附演化机制(AEM)虽然被广泛研…