说明：本文华算科技手把手教你用Digital Micrograph（DM）把“毛玻璃”变成可发表的高分图。
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首先，扫码发送“315”下载DM软件
DOI：10.1002/smll.202502478
在拿到HRTEM原图时，首先需要对图片进行降噪处理以增加图片的清晰度。
第一步，我们在DM软件中打开目标文件（本文的示例为氧化亚铜的高分辨透射电镜图）：
傅里叶变换是TEM图片处理中“从定性观察到定量分析”的核心工具——它将空间域中复杂的微观结构（晶格、缺陷、界面）转换为频率域的直观信号（斑点、环、强度分布），实现了晶格参数的精确测量、噪声的有效过滤、缺陷的精准识别及取向关系的系统分析：
1、对图片进行傅里叶变换，选择“Process”中的“FFT”（其中“Binned FFT”是压缩像素的傅里叶变换；“Live”是实时傅里叶变换，可以根据这一功能选择衍射斑点较为清晰的界面进行分析）：
2、在傅里叶变换窗口右击选择“Array”工具，将两个箭头尽量拖至斑点的中心：
3、选择“Process”中的“Apply Mask”应用所标记的点，可以通过修改“Smooth…”中的值来改变反傅里叶图片的像素：
4、最后选择“Process”中的“Inverse FFT”来进行反傅里叶变化，如图所示降噪后的区域要比未降噪之前的区域更加清晰：
1、对TEM图片中的细节进行放大处理，首先框选自己需要的部分，快捷键“Ctrl+C”可复制选择好的区域，快捷键“Ctrl+Alt+V”，即可在一个新的窗口显示该区域：
在TEM图片的处理中，晶距标定是最常见的图片处理要求，是TEM从“图像观察”上升到“结构解析”的核心桥梁，它将直观的微观图像转化为可量化的晶体学参数，为材料的物相鉴定、结构表征、性能关联提供了不可替代的定量依据，是材料科学、凝聚态物理、催化化学等领域微观研究的 “基石步骤”。
1、首先需要确定标尺，选择直线工具在原标尺上标记，尽量覆盖整个标尺。接着打开“Analysis”中的“Calibrate”确认标尺，在弹出的界面根据原标尺对数值和单位进行修改：
2、接着开始测量晶面间距，选择“Profile”工具沿着垂直于晶格条纹的方向画一条直线，直线的长度为十几个晶格；画线结束后即可弹出如图所示的界面：
3、在出现的界面选择一个峰作为初始峰，选择这个峰并向后拉伸10个峰左右的距离，将得到的数值除以10即可获得每个晶格的宽度（2.064/10=0.2064nm）：
4、最后通过直线和箭头工具在原图上标出晶面间距即可：
5、同样的还可以对傅里叶变换中的衍射斑点进行晶面测量，在傅里叶图层量取中心对称两个点之间的长度，这样可以减小误差；
首先选择工具中的“Line”连接两个点（可以放大图层让线的端点尽量位于衍射光斑的圆心），选择“Analysis”中的“Calibration”，即可得出两点之间的长度：
6、得出的长度为两个衍射斑点之间的长度，单个晶面的长度需要将长度*2，0.1029*2=0.206nm；具体的公式如下所示：
式中l0为标距长度，l1为两个衍射斑点之间的长度，λ为比例尺，ld为衍射斑点距离衍射中心的长度，dd为实际晶面长度。
晶面匹配是TEM图片处理中从“静态结构观察”到“动态性能解析”的核心纽带——它不仅描述了晶体间的几何适配关系，更揭示了界面应力、缺陷演化、生长规律等深层次问题，为材料的结构优化、性能调控提供了微观尺度的定量依据，是连接材料微观结构与宏观性能的“关键解码步骤”。
1、首先打开“Jade”软件，右击“S/M”图标，选择使用化学元素分类筛选；在弹出的界面选择样品中所包含的元素（本文的示例为氧化亚铜，选择O元素和Cu元素），点击“OK”：
2、元素确定后，选择“所有子相库”，在弹出的界面选择自己需要的PDF标准卡片进行匹配：
3、将测量得到的晶面间距和衍射斑点之间的距离与卡片中的d值进行匹配（注意单位的换算，1Å=10nm），并在TEM图中标出：
4、这样就完成了一张HETEM图像的处理工作。
