原位透射电子显微镜（In-situ TEM）：材料动态表征与应用场景解析

总结：本文详细介绍了原位透射电子显微镜（In-situ TEM）技术的核心特点（可在外部刺激如温度、应力、电场等条件下动态观察材料原子/纳米级行为）、实验设计逻辑，以及在相变、电池材料反应、催化与表面生长、材料机械形变等多领域的具体应用，同时分析了技术面临的挑战（如温度/电压校准、电子束影响、薄片效应）与未来发展方向（像差校正集成、高速检测与数据分析优化）。

读者可学习到In-situ TEM技术的工作原理与实验设计关键要点，了解如何利用该技术捕捉材料动态过程（如晶粒生长、电池SEI层形成、位错运动），为开展材料科学领域动态结构-性能关系研究提供全面的技术参考与实操思路。

原位透射电子显微镜提供了对材料在外部刺激下的物理行为的动态观察，如温度、气体环境、应力、电场或磁场，这些实验的目的是提供对原子或纳米级现象的深刻理解，这些现象不容易通过其他方法获得，以告知我们对材料的理解。

1 为什么要进行原位透射电子显微镜实验？

从最早的透射电子显微镜（TEM）开始，显微镜专家就了解到显微镜在研究动态过程中的潜力。依次记录的图像可以用来跟踪由故意的行为（如加热或拉伸）或电子辐照的不可避免的影响所引起的变化。从某种意义上说，每一次TEM观察都是一次原位实验，因为每个试样都会受到电子束的影响。但原位显微镜研究者的目的是以一种有意的方式作用于样品，并从结果中学习一些东西。

在最激动人心的原位实验中，对试样的环境进行控制改变，并与由此产生的结构变化相关联，使用任何可用的成像、分析或衍射技术进行测量，或使用电子、光学或机械特性进行测量，这些也可以在原位进行。样品周围环境的变化，以及随之而来的结构或属性的变化，被模拟和定量地记录。

原位实验有许多好处。单个原位实验可以提供一个连续的过程，因此可以代替多次事后的测量。例如，一个加热实验可以提供一些信息，否则这些样品的信息必须退火到不同温度或不同时间时候才能够被提取。不同样品的前后状态时存在微观结构的不均匀性，在原位观察同一区域的前后状态，往往可以更清楚地了解某一特定现象。

此外，因为原位实验是连续记录的，所以更容易捕捉到一个瞬时阶段或观察到一个晶体成核事件。原位实验可以产生具体和详细的动力学信息，例如，测量已知应力下的个别位置的运动，或个别纳米晶体的生长速度。可以确定特性良好的纳米结构的特性，如单个纳米管的导通性或沉淀物的熔点。

最后，生长或催化实验提供了一个了解材料在某种现实加工条件下的行为的窗口，因为如果我们把材料从反应室中取出并进行事后分析，就会发生重大的变化。

尽管原位实验提供了独特的信息，但这是以增加实验复杂性为代价的。仔细设计试样是必要的，以尽量减少薄片效应。此外，必须进行测试以了解电子束的影响，并且对应用的刺激进行校准是至关重要的。

尽管很多原位实验比较复杂，但鼓舞人心的是，人们已经在原位条件下研究了各种材料。在大多数的实验中，对试样的刺激输入，如电子束加热或控制样品加热，冷却或拉伸，可能是相对简单的，利用电压或磁场，甚至用扫描探针尖进行样品的修改是更复杂的操作。对于这些实验，需要使用专门设计的样品和支架，其中包括：加热器、电接触、探针尖或机械应变。这样的实验可以在大多数标准的电子显微镜中进行。

第二类不太常见的实验是改变样品的环境，例如，将其暴露在活性气体中或在其上沉积另一种材料。对于这种研究，有两种实验策略是可能的。一种是使用传统的显微镜，但通过一个改良的样品架实现环境控制，其中样品和反应环境被封闭在两个电子透明的窗口之间。

另外一种是修改电子显微镜本身，例如在试样区域增加气体穿透装置。然后样品暴露在所需的环境中，不需要样品保护窗。这些原位实验涉及到表面反应，环境清洁很重要，在这种情况下，整个电镜系统必须设计成超高真空（UHV）。

超高真空样品区允许原子级清洁的表面被制备（例如通过加热），真正的超高真空显微镜是罕见的，因为它们代表了大量的金钱投入，它们通常包括连接到显微镜的侧室，在侧室中可以进行其他的制备或沉积处理。

在收集输出数据方面，一些原位实验需要原子分辨率成像，而另一些则使用较低分辨率的应变或缺陷成像、衍射分析或分析技术，如元素图谱。

在过去的几十年里，记录数据的速度和保真度有了极大的提高，从模拟录像带到电荷耦合器件（CCD）记录，再到现代直接电子探测器，能够以超过1kHz的速度记录。对刺激参数的测量，如样品温度、气体压力或施加的力，以及感兴趣的材料特性（如电导率）能够与图像、衍射或光谱测量同时收集，这种相关的数据收集是非常强大的，但在处理和分析方面也是一个挑战。

原位技术是电子显微镜最令人兴奋的前沿领域。

2  In-situ TEM的应用：相变

使用原位TEM技术完成的最大工作是在相变领域：熔化和结晶，晶体结构之间的转变，以及由温度、电压或机械应变驱动的固态扩散形成的新相。对这种转变的理解在科学上是有趣的，在技术上是必要的，例如，合金的加工，开发具有极端硬度或超塑性、磁性或形状记忆特性的新材料，或开发具有改进特性的可充电电池。

In-situ TEM已经提供了关于许多相变过程中产生的机制、动力学和结构的详细信息，包括在纳米尺寸范围中。电子显微镜非常适合此类研究，因为它的高分辨率可以使原子运动可视化；分析技术可以确定转化过程中原子的种类，而衍射技术可以确定变化条件下的相。小的沉淀物或原子可以被描述出来并跟踪它们的演变，缺陷和复杂的或不完整的结构也可以被分析出来。

相变研究的要求可以是简单的时间分辨成像和一个加热台。更复杂的实验涉及冷却、应变、沉积或施加电压。

样品可以是薄膜形式的，也可以是基于微观制造的平台。它可以是纳米颗粒的聚集，形成一个薄层，或一个独立的结构，如在一个或多个点连接的纳米线。在某些情况下，电子束引发了相变。更为可控的是加热，通过一个炉型样品架或一个基底上的电阻性加热轨道，直接通过电流流过样品。

精确测量样品温度是一个挑战，但对于获得定量信息，如原位进行的反应的活化能，是至关重要的。例如，通过热偶在炉子上测量的温度与被观察区域的温度不一样。因此，人们开发了一些方法来绘制局部温度图，例如使用已知的In粒子的熔点，或通过电子能量损失光谱学（EELS）校准峰的移动。然而，这些方法仅限于特定类型的样品，没有一个通用的解决方案。

一个类似的问题是，在电压驱动的转换中，很难测量被观察区域的电压。校准是电子显微镜的一个重要问题，但在微加工样品方面的创新，保证了更好的可重复性和对被观察区域条件的控制。

3 In-situ TEM的应用：结晶、熔化和晶粒生长

无定形材料的结晶是一个相互影响的重要过程，In-situ TEM特别适合这类分析。最初的简单实验涉及到硅的再结晶，非晶态薄膜沉积，然后在高分辨率TEM中进行横截面加热，并显示了高温下高分辨率成像的力量。

晶体的成核是可视化的，可以估计出临界核的大小，并证明了反应前沿的不规则进展，尽管从宏观上看，动力学与更连续的边缘机制是一致的。这项研究工作提供了一个关于大块相变的新观点，显示了现在人们在原子上如今已经熟悉的开始–停止的运动。扩展到Si、Ge或C的结晶，也证明了这些反应的机理。

现在，对硅的结晶已经有了很好的研究，包括原位和非原位，甚至可以作为校准工具来测量薄型试样中的温度。最近的结晶研究使用了平面而不是横截面，使得许多晶粒可以被成像，如Ta ，形状记忆合金NiTi，氟氯锆酸盐玻璃陶瓷，以及用于下一代太阳能电池的钙钛矿。

先进的技术被用来描述结晶过程，例如波动电子显微镜，它显示了随着结晶温度的接近，金属玻璃中的成分波动和短程、中程秩序。

4 In-situ TEM的应用：固体到液体的转变

熔化和冻结可以通过衍射或成像原位观察。一种纳米温度计由大直径的碳纳米管中的Ga包围而成，这种结构被用来测量液体Ga的膨胀系数，并观察冻结时的不同结构，其他一些涉及液体的转化也已经在原位进行了研究，可以预测液体与晶体之间的界面排序。然而，使用衍射技术很难获得实验数据，特别是对于有切面或横向范围小的表面。

温度控制的TEM可以探测固–液界面的静态结构和固–液之间的转变。Xe薄膜中的固–液转换已经通过环境冷却池中的衍射进行了测量。在某些情况下，包括能量过滤或像差校正成像，显示了液体中秩序的持久性，例如在PdSi的晶体–液体界面，硅和铝硅，以及铝中Xe的界面和铝的界面上。

5 In-situ TEM的应用：晶粒生长和晶界运动

多晶体材料在退火或机械变形时以不同的方式改变其结构。原位加热实验研究了金属的反浸润现象和金属的晶界运动，如铜、金和铝。这样的测量有助于澄清机制，确定活化能，甚至确定杂质和气体环境的影响。

例如，对纳米晶银薄膜测量的kinetic参数表明，晶粒的生长是由表面扩散质量运输主导的。此外，更复杂的晶界动力学也可以被研究。一个有趣的例子是液态镓沿铝的晶界渗透，与脆性有关，观察了渗透过程中的结构和应变场，不同晶粒方向的动力学，以及位错的影响。

暗场成像对多晶体薄膜或低对称性边界的晶界动态有很好的效果，但如果晶粒之间存在对称关系，高分辨率加热实验就很有用。对具有高对称性的工程边界的双晶进行高分辨率实验，特别是在金和铜中，详细的测量成为可能，以确定晶界迁移机制。

比较不同时间的图像可以量化随机运动，原位实验表明，集体机制在迁移过程中起作用。迁移过程中的集体机制，不寻常的结构可能在边界处形成和增长，阳离子也可能被发射出来，它们的结构细节和与边界的关系可以被测量。

6 In-situ TEM的应用：固体–固体转换

原位技术还被用于观察不同晶体结构之间的转化和涉及扩散的固态反应。金属间合金的转变提供了一个极好的机会，使其能够发挥其力量。例如，对于TiNi，可以确定不同相之间的定向关系，并且可以在原位观察应变期间马氏体板出现的动态。

镍铝合金的原位加热显示了高温相的织构和缺陷结构是如何来自于低温相的，并且用低分辨率成像和衍射法说明了相分解过程中发生的过程。

原位加热显示了镍基超合金在氧化作用下发生的相变以及在非常高的温度下秩序的变化。更高的分辨率成像显示了TiAl中伽马相形成的细节，例如在表面的壁架运动。其他研究的材料包括形状记忆合金CuAlMn ，TiNiHf ，以及铁锰硅和MgZ合金。

原位实验可以研究晶体之间转换的逻辑关系、位错与转变前沿的相互作用，以及加热或应变时产生的相的形态学。

也有可能原位研究机械诱导的相变。例如，应力诱导的奥氏体到马氏体相变被直接成像通过实时记录纳米压缩测试期间的衍射图案。这是第一个直接的证据，证明在NiTi中确实存在这种转变，即使是在取样的时候褶皱尺寸低于200纳米。

薄片效应在这些转换过程中可能是很重要的，样品的厚度影响着相的顺序和转化温度。事实上，在某些厚度下根本就不会发生转化。电子辐照可以导致转化（例如在NiMnTi ）或改变动力学（例如在冷却时的Ti-Mo合金)。

电子束和薄片效应对任何原位转化实验都是非常重要的。电子束效应应该通过在转化后检查未被辐照的区域进行评估。在某些情况下，通过将感兴趣的材料沉积在电子透明的薄膜上，可以将薄片效应降到最低。这可以减少屈曲，并提供比传统的不同厚度的试样更均匀的温度，这对定量研究是有利的。

7  In-situ TEM的应用：与电池有关的转化

在电池中，能量是通过原子的化学环境的变化来储存和释放的，因为它们

在结构内移动。电池的充电和放电可能涉及到从宿主晶格中插入或提取离子，或溶解的离子和固体之间的交换。

开发新电池或改善现有电池的性能依赖于对这些类型的反应的深入了解。原位TEM提供了一种独特的方法来跟踪相变，如固态扩散反应和固液界面的反应。

在锂离子电池中，类似的实验还涉及阳极和阴极材料的反应，以及固体电解质间相（SEI）层的形成，这是一种由有机和无机成分组成的固体薄膜，在电池运行期间随着电解质的分解而形成和变化。

电池原位实验中，这些反应的驱动力是电压，而不是像以前的例子中的温度。电压由一个通过样品架连接的外部电路提供。已经开发了几种设计，以在样品上施加电偏压。1.一个STM的尖端接触到一个导电的、薄的平面样品。2.样品被安装在一个压电驱动的样品架上，该样品架被移动以与一个由离子液体液滴组成的电极接触。3在绝缘膜上制作电极，并由封闭的液态电解质覆盖。

对于阳极材料的反应，感兴趣的问题涉及锂化反应的机制，以及纳米粒子的形状和大小对应力产生和（各向异性）体积膨胀的影响。

原位TEM已经探测了锂在Si、Ge、石墨和氧化锡等阳极材料中的运动。非晶化、去缺陷的形成以及反转时的变化是可见的。结晶硅向非晶硅的转变通过图像对比，可以直接看到高分辨率成像以及元素图谱。

阴极材料通常是氧化物，如LiFePO4。原位实验解决了锂化过程中的相变机制，例如，它是通过相界运动还是固溶发生的。这些相变是通过图像对比和衍射来衡量的或通过分析技术，包括EELS和全息技术。

尽管这些实验一般都集中在锂电池反应上，但越来越多的多样化的材料系统正在被研究。

8 In-situ TEM的应用：催化和表面生长（ETEM）

In-situ TEM可以提供关于修饰表面的反应以及催化反应和薄膜或纳米晶体生长的独特信息。实验包括将样品暴露在反应环境中，同时在对样品表面变化敏感的条件下成像，而不是在样品内部成像。反应环境可以包括高温、反应气体流、沉积流，或者甚至暴露于液体环境。

在这些表面研究中，原位电子显微镜的能力来自于它观察瞬态结构和测量单个纳米结构的反应动力学的能力。这些实验确实有助于理解表面反应和生长，从而改进催化剂的设计，控制表面结构，形成具有特殊形态和性质的纳米结构。

大多数关于表面反应、催化和晶体生长的研究都是在ETEM中进行。标准TEM的电子光学柱可能被来自样品、支架或显微镜部件的碳氢化合物污染。通过控制真空环境，样品可以暴露于例如明显氧化或还原的条件下，可以使气体流动进行催化反应，可以建立富含溶剂的气氛来控制水合程度，或者可以通过提供适当的气相或液相前驱来研究生长。

对于受控环境实验来说，两个主要策略已经被证明是成功的。第一种是在开放室透射电镜中，气体直接联接到透射电镜的样品区¹。

备注：整个电子显微镜柱的差动泵送确保了除样品附近之外的任何地方的压力保持较低，这使得电子必须穿过高压气体的路径长度最小化，并允许电子枪正常工作。在样品区域可以达到几百毫托的压力。  

这种显微镜可能复杂且昂贵，但是它们能够对活性样品进行实验，而这些实验不能通过其他方式实现。ETEM有非常广泛的应用，而UHVTEM是用于敏感材料的更专业的技术。

ETEM的第二种方法是闭孔法。一对通常由氮化硅或石墨烯形成并间隔几微米的电子透明窗口用于将气体限制在狭窄的层内¹。

备注1：气体是通过管子供应的，管子穿过一个特殊设计的支架。样品通常由纳米颗粒组成，附着在一个窗口的内部，由微型加热器加热。

闭孔ETEM允许样品暴露在高压下，甚至1个大气压，而不需要在显微镜中进行特殊抽吸。加热、双轴倾斜和分析技术等功能在过去很难在闭室实验中实现，但最近的创新扩展了闭室显微镜的功能范围和应用。封闭单元甚至可以用于向样品提供液体，只要窗口间距减小到几百纳米以获得合理的成像性能。

开室和闭室透射电镜是近年来迅速发展的强大技术，在一系列重要的科学领域取得了进展，这个领域非常广泛。

8  In-situ TEM的应用：催化剂

催化作用在科学和技术中的核心地位促使研究人员应用各种可用的技术。其中电子显微镜发挥了强有力的作用。事实上，鉴于在催化剂运行过程中对结构和动态的突出观察，催化是一个非常受欢迎的ETEM课题。大多数ETEM实验涉及到由氧化物载体上的金属颗粒组成的异质性催化剂。

催化剂在高温和受控的气体环境下被检查，即使在几毫巴的情况下也能达到原子分辨率。 ETEM实验的影片和数据有助于将催化剂和基质结构与反应性联系起来，确定中间阶段，并测量催化剂的稳定性，例如烧结。ETEM被用于工业和学术实验室，我们猜测许多结果仍然是专有的。

在过去的十年里，原位TEM技术的快速发展改变了我们对催化的看法。特别重要的进展是通过畸变反射的分辨率，量化（例如，测量气体环境的组成），以及可获得的实验条件范围（特别是使用闭孔技术的高压）。

9  In-situ TEM的应用：外延和多晶体薄膜生长

连续薄膜的原位生长可以测量成核、表面形态的发展、晶粒演变和应变效应。如上所述，生长材料可以是蒸发的，也可以是多晶的。如同氧化镁上的金外延一样，在原位进行评级或硅上的硅化物生长。另外，它也可以作为一种活性气体来供应，如对Al或硅上的Ge，生长是沿着样品的垂直边缘观察或从平面上看。

Ge和SiGe在硅上的外延说明了许多这样的生长现象，对微电子器件的发展具有重要意义。UHVTEM被用来提供干净的初始表面和校准的流量和温度条件。初始平坦的硅表面是通过在超高真空中加热基片，使其远高于氧化物解吸温度而获得的。然后使用化学气相沉积气体，如二硅烷或二锗烷进行生长。

STEM和REM 提供了生长形态发展的视图，弱光束图像提供了对Ge沉积在Si上时发展的应变场的最大敏感性。最初的表面重建和Ge岛的成核、生长和凝聚可以按照在硅（111）和（001）上。观察到一系列现在已知在其他外延系统中常见的迷人现象，如在引入应力消除的位置时岛的形状变化。

如果不使用原位TEM，在这些研究中观察到的结构范围将是繁琐的，无法在原位捕捉到动态现象，如岛状变化和奥斯特瓦尔德熟化的重要作用不会被发现。在生长过程中由表面活性剂的存在引起的变化也被原位检查。值得注意的是，使用原位LEEM的补充研究很重要，因为LEEM对表面结构更敏感。

10 In-situ TEM的应用：材料的机械形变

TEM对于研究材料的机械性能是独一无二的，因为基本的变形机制很容易被观察到：TEM对于晶格变形的敏感性允许通过应变场对弹性和塑性变形进行可视化。

原位变形研究的目的是在样品上施加一个已知的应力，并测量量化的反应。从20世纪50年代末开始，原位应变阶段被开发出来，提供了对金属中位错运动的动态观察。今天，这是一个非常活跃的研究领域。

通常情况下，机械变形是通过一个应变台来实现的，通过压电或机械连接来单轴或双轴地拉动试样。另外，可以通过加热具有热膨胀不匹配或内置应力的样品，如外延膜，来施加应力。也可以使用纳米探针或STM探针支架对电子透明区域进行局部机械刺激。

拉伸甚至可以在受控的气氛中进行，以模拟诸如氢脆的现象。样品本身可以是薄膜、纳米结构或块状材料，也许有缺口以引发裂纹。最近在样品制备策略和微制造的装载设备方面的进展使得晶体样品的精确对准或单个纳米结构的机械测试成为可能。

原位实验在理解基本变形现象方面起着关键作用，因为有必要看到试样的内部结构；表面技术不能提供全貌，即使有时可以在表面看到位错的特征。当然，TEM样品在电子束方向上很薄，在解释结果时必须考虑到附近自由表面的存在。

11  In-situ TEM的应用：多相、复合、层状或非晶态材料的变形

多相材料的变形实验，如弥散强化合金，弥散强化的铝合金已经被广泛地研究，以描述析出物上的位错成核和它们在析出物上的运动。这些现象在这种合金的高温去形成中是至关重要的。其他现象，如晶界迁移、凝聚和次晶界的消除，在TEM中加载的动态持续结晶过程中发生，原位研究有助于理解这些过程。

当然，钢是一种关键的多相材料，其原位行为已经被研究了一段时间，以了解位错运动和通过界面的滑移任务。许多其他的纳米复合材料提供了错位–界面相互作用的有趣例子。

无定形材料的变形可能看起来很难在原位获得，因为变形特征通常不可见。然而，原位TEM确实显示了金属玻璃变形过程中的一系列行为。例子包括通过纳米压缩在金属玻璃纳米柱中形成和定位剪切带，形成一个类似液体的层，以及高延展性（高达45%的应变）和缩颈在原位拉伸测试中。

此外，通过结合机械测试和可控环境TEM，钢的氢气脆化机制已经得到解决。

12  总结与展望

尽管原位实验很复杂，但许多成功的、内容丰富的实验都模拟了真实反应过程。一些原位实验是在昂贵的显微镜中进行的，这些显微镜被修改以达到控制试样环境的目的，或者是为超高压设计的。但是其他的实验是在传统的仪器中进行的，使用标准的支架：甚至用电子束辐照样品也能产生原位数据。

通过购买商业原位支架（加热、冷却、拉紧、纳米压痕器、电偏置支架、液体电池）或开发定制支架，以及增加测量样品属性的功能，可以使实验领域更加广泛。

例如电传输，同时对其结构进行成像。

仪器的快速发展使原位显微镜处于一个令人兴奋的时期。样品支架的设计变得更加复杂，但也更加精确和可重复。样品本身的设计越来越多地包含了对FIB制备的创新使用。人们对纳米结构和低维材料越来越感兴趣，这与TEM以最小的样品制备来分析小体积的能力完全吻合。

除了薄箔效应和电子束引起的人为因素，原位显微镜的主要限制是极靴中可用的空间小。在未来，这个问题将通过像差校正的不断发展而得到缓解。正确的显微镜设计可以增加极靴的空间，又不损失分辨率，额外的空间可以进行不同的刺激实验，如加热和辐射，在气体环境中过滤，同时E和B场、激光、显微操作器、微流体等，额外的空间也改善了样品环境的校准。

像差校正带来的另一个非常重要的好处是能够达到较低的电压，而不会造成分辨率的极大损失。选择电压以优化电子束损伤的能力将被证明对涉及二维材料的原位实验特别有用。对于其他材料，样品厚度，或者更一般的样品设计，将仍然是降低电压的限制。

除了与像差校正显微镜设计更好地集成，原位实验还将扩展到其他几个领域。如能量过滤成像、EELS或XEDS来检测时间分辨的化学变化（原位实验技术使用较少）。

快速采集的需要和样品的剂量敏感性限制了可能的信噪比。因此，检测器的不断改进对于原位分析研究来说尤其有希望。类似地，单色仪和色差校正将改进原位化学分析，从而更有效地利用样品的剂量。

电子显微镜的一个显著特点是其广泛的成像模式，但其中许多模式还没有在原位中得到广泛使用。会聚束电（Convergent-beam）电子衍射是一个例子，它开始与高速探测器一起使用，在原位绘制局部应变图。

层析成像、全息成像或无定形材料成像等技术也将更多地在原位使用，特别是在感兴趣的现象，在足够慢、材料的耐受性足够好的情况下，使图像采集变得可行。与光刻工具一样精确的定制电子束操作将有助于样品的图案化，并允许更有效的剂量成像。

高速成像为研究提供了新的现象，然而，它加剧了原位显微镜专家已经经历的剂量承受能力、数据收集和数据分析等问题。虽然计算机虽然计算机的改进有助于数据的采集、搜索和分析，但现代探测器的巨大数据量仍然使之成为一项挑战。

视频数据的智能查询，从物体检测和跟踪到更复杂的测量，目前是原位分析的一个限制，因为经常需要为每个实验开发定制软件。改进电子束效应的建模和在原位样品中发生的物理过程也是发展的关键领域。建模对于从实验中提取最定量的信息是至关重要的，原则上可以指导显微镜专家选择实验条件来进行观察，这是对理论最关键的测试。

最后一个评论来自于可控环境原位显微镜的复杂性，自从首次开发这种仪器以来，其复杂性已经增加。在一些过程，例如样品加热，记录图像时必须在极靴上进行。但实验的其他方面可以在极靴外进行，同时仍在真空系统中。例如，离子溅射或高温退火以清洁样品，一些沉积工具，如蒸发器和温度校准。

在同一真空系统内将一些功能移出原位，可以提高复杂的显微镜系统的可靠性，并为实验提供更灵活的方法，特别是在时间有限的多用户环境下。

In-situ TEM领域自20世纪50年代开始以来已经取得了巨大的进步。预计在未来的几十年里会有更多令人兴奋的结果。

本文源自微信公众号：老千和他的朋友们

原文标题：《【深度讨论】 原位透射电子显微镜（In-situ TEM）技术特点与应用》

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