电子源（提供电子的装置）
根据产生电子的方式不同，分为两种发射类型
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热发射（Thermionic Emission）利用高温加热材料（如钨丝、LaB₆），提供电子足够的能量，克服金属表面的逸出功（work function），从而逸出形成电子束，类似“烧热后蒸发电子”
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场发射（Field Emission）不靠加热，而是给发射源（如金属尖端）施加超强电场（通常 >10⁷ V/cm），这个电场会改变金属表面势垒形状，使电子可以通过量子隧穿效应穿过势垒而逸出，整个过程几乎不依赖热，工作温度接近室温，类似靠电场“拉出”电子
加速电场
电子产生后需要提升电子的动能，使其穿透样品（几十到几百纳米），形成透射图像。加速电压越高，电子能量越大，穿透能力越强，图像对比与清晰度也更好
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根据电子的德布罗意波长：
光圈（aperture）（准确的说是电子束阑）
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TEM 中的光阑（aperture）是一类用于调节电子束传播路径、角度、照明区域或能量范围的装置，它对成像清晰度、对比度、空间选择性和谱图质量都有关键作用。
样品杆和铜网（样品所在地方）
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需要三维成像时，样品杆和铜网都是可以在一定角度旋转的
成像方式（透射/衍射）
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电子束穿透样品后，被样品内部不同厚度、密度、晶体取向等因素散射
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明场像只收集未发生散射的透过电子，图像亮度反比于样品的电子散射强度（其他成像方式可以看上一篇文章透射电镜下看到的是原子像吗？）
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暗的地方：散射强、样品厚或原子序高
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亮的地方：散射弱、样品薄或原子序低
磁透镜-非光学透镜（实现电子束聚焦，这也是获得诺奖的主要原因）
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类似玻璃透镜聚焦光，磁透镜是一个轴对称的磁场系统，通过螺线管产生磁场
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当电子通过磁场时，会受到洛伦兹力的作用，沿着螺旋轨道聚焦在某一焦点
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根据磁场强弱、位置等参数，可实现不同的聚焦作用（物镜、中间镜、投影镜等，TEM中的所有磁透镜总结如下：
透镜名称 主要作用 聚光镜（Condenser lens） 调整电子束照射范围与强度 物镜（Objective lens） 形成样品的初级图像 中间镜（Intermediate lens） 调节中间像大小、位置 投影镜（Projector lens） 将像放大投射到屏幕/相机
荧光屏+信号收集器（可以实时看到样品像）
CMOS（高分辨像，通常需要一定的采集时间）
其他装置：如真空仓
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本文源自微信公众号：邹先森是Rain、能源人Scientist
原文标题：《一文搞懂TEM的内部结构（图解版）》
原文链接：https://mp.weixin.qq.com/s/PwNrqaVln0veoZbXgvDGBQ
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