首页
最新资讯
资料下载
计算干货
测试干货
顶刊解读
学术招聘
视频课程
计算培训
登录
注册
华算科技
首页
武汉科技大学
武汉科技大学
顶刊解读
华科/武理/武科Small: 面内S缺陷结合过渡金属掺杂,增强了MoS2的碱性OER和HER活性
本文同时引入面内硫空位(Sv)和3d过渡金属掺杂剂激活了MoS2的基面(MSv-MoS2),在析氢反应(HER)和析氧反应(OER)中实现高活性。
2022年9月11日