说明:本文华算科技主要介绍怎样从XRD谱图算出晶粒尺寸、晶格畸变和位错密度,包括峰宽提取与仪器校正、Scherrer公式的参数取值、Williamson-Hall图的斜率与截距读法,以及位错密度换算和不同方法数值差异的来源。
XRD算出的晶粒尺寸,指的是相干衍射域的尺寸:晶格连续、取向一致、能对入射X射线产生相干衍射的区域。一个颗粒内部常包含多个相干衍射域,电镜下的颗粒轮廓普遍不小于XRD数值,细晶样品里两者能差出几倍。

两种手段的统计权重也不同:TEM按颗粒数目统计投影直径,XRD按衍射体积加权平均晶畴尺寸,大晶畴贡献的衍射强度高,均值向大端偏。晶畴细小而颗粒团聚时,两个数值能差出一个量级。
晶格畸变在峰宽分析里用微应变ε描述:晶面间距d围绕平均值起伏的相对幅度,常写成Δd/d。空位、代位原子、位错应力场都会让不同位置的d略有差别,衍射角随之分散,峰包变宽。
位错密度ρ定义为单位体积内位错线的总长度,单位m-2。充分退火的金属约在1010-1012 m-2,剧烈塑性变形后可达1015-1016 m-2。三个量都写在衍射峰的宽度里:晶粒越小、畸变越大,峰越宽;第三个量再由前两个量组合出来。
公式里的β指样品造成的展宽,仪器却把自己的宽度也叠了上去:狭缝、轴向发散和入射光单色化程度都会加宽峰形,这部分叫仪器展宽。校正用无应变粗晶标样(常用LaB6或Si)测出它随衍射角的曲线,洛伦兹峰形按线性相减,高斯峰形按平方相减。
峰宽有两种读法:半高宽FWHM取峰高一半处的宽度,积分宽度取峰面积除以峰高,代入公式前都要换算成弧度。Cu Kα2伴线还要剥离,双线混叠的峰宽会把晶粒尺寸算小。

峰位和峰宽由拟合给出,不靠肉眼读取:单峰用高斯、洛伦兹或伪Voigt函数拟合,全谱用Rietveld精修把背景、峰形和晶格参数放进同一套模型。差值曲线平直,代表峰形函数与实测峰形吻合,提取的β再代入尺寸和应变公式。
两类样品展宽对衍射角的依赖不同:尺寸展宽按1/cosθ变化,应变展宽按tanθ变化,高角峰的应变展宽增长得快。同一张谱里低角峰与高角峰的宽度差携带两类贡献的比例,这一随θ变化的差别是所有分离方法的物理基础。
Scherrer公式写作D=Kλ/(βcosθ):λ是X射线波长,Cu Kα1为0.15406 nm;β是扣除仪器项后的样品展宽,用弧度表达;θ取衍射峰位置2θ的一半。四个量里只有形状因子K不来自测量。
K的常用取值是0.89或0.9,对应球形晶粒和半高宽定义;立方、片状或针状晶粒对应别的推导值,差别能给尺寸带来百分之几到百分之十几的整体平移。换K重算时,同一批样品之间的相对大小不受影响。
单峰Scherrer默认展宽全部来自尺寸,样品应变较大时数值被系统压小;修正Scherrer法把多个衍射峰联立,对lnβ和ln(1/cosθ)作线性拟合;截距对应的尺寸把单峰选择带来的随机误差平均掉。

Scherrer换算的适用上限约100-200 nm:晶粒再大,尺寸展宽淹没在仪器展宽里,数值不再随晶粒大小变化;下限受峰形拟合质量限制。几纳米到几十纳米的粉体处在这条公式的最佳工作区间。
Williamson-Hall法把两类展宽写进一条直线:βcosθ=Kλ/D+4εsinθ。对每个衍射峰计算βcosθ与4sinθ,多个峰画进同一张图作线性拟合;截距给出晶粒尺寸D,斜率给出微应变ε;一次拟合给出两个量。
这条直线默认应变各向同性、峰形取洛伦兹形,属于最简化的均匀变形模型。数据点偏离直线时,偏离方式也有含义:不同晶面族弹性响应不同会让点按晶面分组,个别峰混入第二相则单点跳出趋势线。

拟合斜率还会出现负值:高角峰比低角峰更窄时,直线向下倾,常见于应变释放、晶粒粗化的退火样品,也常被解释为压缩型微应变。负斜率伴随较低的拟合优度时,截距换算的尺寸误差随之放大。
考虑弹性各向异性的版本把简单斜率换成含弹性常数的表达式:均匀应力模型引入各晶面的杨氏模量,能量密度模型按变形能统一各晶面的权重。换用两类模型后,应变和尺寸数值都会移动,移动幅度记录着弹性各向异性的强弱。
组合公式与简化公式
峰宽分析给不出位错的直接影像,位错密度按组合公式换算:ρ=2√3·ε/(D·b),b是柏氏矢量的长度,由晶体结构和滑移系决定;D和ε正是前两步算出的尺寸与微应变。公式默认位错应力场是微应变的主要来源。
只用尺寸的简化式写作ρD=3n/D2,按晶界处储存位错的图像估算,n常取1;只用应变的版本写作ρS∝ε2/b2。两者的几何平均(ρD·ρS)1/2正是上一条组合公式的来源。

位错密度继承输入量的误差:D和ε各带百分之十几的不确定度时,ρ的相对误差成倍放大。量级和随成分、工艺变化的趋势比单点绝对值承载更多材料信息;两种输入算出的ρ相差可观时,ε的符号和拟合优度是首要的排查对象。
方法之间的数值差异
同一组谱图交给不同方法,数值常差百分之几十,差别来自各家的峰形与应变假设:Scherrer忽略应变项,W-H按直线分离,尺寸-应变图SSP给低角峰更高权重,Halder-Wagner采用伪Voigt峰形假设,Rietveld精修在全谱内统一拟合;输入的谱图数据是同一份。

跨文献比较尺寸和位错密度时,方法名、K取值、峰形函数和仪器校正方式与数值列在同一张表里,读者能把数值差异拆回假设差异;同一批样品固定同一种方法处理,成分和工艺引起的趋势不会被方法差异盖住。
