过电位的全貌:概念、来源与测定方法

说明:本文华算科技系统阐释“过电位”概念,解析活化与浓度极化来源,介绍LSV、Tafel、EIS等实验测定手段及通过DFTPDS计算理论过电位的方法,为评估和优化催化活性提供量化依据。
过电位的全貌:概念、来源与测定方法

什么是过电位

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过电位是电化学反应中,实际电极电位和热力学平衡电位(U₀)的差值,是电化学反应得以产生净电流的必要条件。
简单来说,平衡电位是反应达到热力学平衡时的电位,此时反应没有净电流产生;而要让反应实际发生需要施加一个额外的电位,这个额外的部分就是过电位。即
η = |U实际 − U0|
注意:过电位是一个绝对值,仅反映 “差距大小”与反应方向无关。
例如,在电解水制氢中,析氢反应(HER)的平衡电位约为 0V(vs 标准氢电极 SHE),若实际需要施加 -0.2V 才能产生稳定电流,则相对于该电流密度下,HER 的过电位 η=0.2V。
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水分解反应中析氢反应及析氧反应示意图。DOI: 10.1021/acs.chemrev.9b00248
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过电位的核心本质

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过电位的本质是为了克服电化学反应中的 “阻力”,量化反应能垒,过电位越大,表明反应克服能垒所需的额外能量越高,催化效率越低。
这些阻力主要来自两个方面,对应两种主要的极化类型:
活化极化:源于电极表面反应本身的速率限制。即使反应物充足,电子转移或化学键断裂等步骤也需要额外能量推动,由此产生的过电位称为活化过电位。
浓度极化:源于反应物或产物在电极表面的传输限制。比如反应物来不及扩散到电极表面,导致电极附近浓度降低,为了维持反应速率,需要更高电位,由此产生浓度过电位。
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DOI10.5772/intechopen.77109
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量化过电位的核心方法

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实验室中通过电化学测试量化过电位,常用方法包括:
线性扫描伏安法(LSV)
原理以缓慢速率(如 5~10 mV/s)扫描电极电位,记录电流密度变化,得到 “电位 – 电流” 曲线;
应用从 LSV 曲线中读取 “特定电流密度下的实际电位”,如OER,结合理论分解电位1.23 V(vs SHE)计算过电位(如 10mA/cm² 时的 η);
优势快速直观,可初步判断催化剂的活性高低。
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aOERLSV极化曲线(b10mA/cm2电流密度下的OER过电位(cHERLSV极化曲线(d10mA/cm2电流密度下的HER过电位。DOI10.1039/d5ta00627a
塔菲尔曲线(Tafel Plot)
原理将 LSV 数据转换为 “过电位 – 电流密度对数”(η – logj)曲线,符合塔菲尔方程 η = a + blogj(a 为截距,b 为塔菲尔斜率);
应用塔菲尔斜率 b 可判断极化类型 ——b≈120 mV/dec 对应活化极化(单电子转移步骤为 PDS),b≈40 mV/dec 对应多电子转移;a 值越小,催化剂活性越高。
其中,dec=“数量级”,即 j 每增加 10 倍对应的 η 变化。
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abOERLSV极化曲线及其相对应的Tafel斜率(cdHERLSV极化曲线及其相对应的Tafel斜率。DOI10.1002/smtd.201800055
电化学阻抗谱(EIS)
原理通过交流阻抗测试,分离电极过程中的电阻组分。
EIS 是唯一能定量分离不同电阻组分的方法,通过交流信号扰动,将总电阻拆成溶液电阻(Rs)、电荷转移电阻(Rct)、传质电阻(Zw),从而明确过电位高是因为电阻大,还是活化能垒高。
应用Rct 越小,活化极化越低;Rs 越大,欧姆极化越高,可针对性优化(如更换高电导率电解质)。
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EIS电化学阻抗谱。DOI10.1007/s40820-020-0412-8
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理论计算

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以OER反应为例,理论过电位的本质是 “OER 四步质子耦合电子转移(PCET)反应中,自由能变最大的步骤:电位决定步骤(PDS)所需的额外电位”,过电位的推导遵循 “找瓶颈→算差值→转电位” 的逻辑。
过电位计算

步骤 1:明确反应路径

过电位计算需先明确反应路径,以DOI10.1021/acscatal.1c03737这篇文章为例,OER 在标准条件下遵循四步质子耦合电子转移(PCET)机制,反应式如下(* 代表表面活性位点):
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DOI10.1021/acscatal.1c03737
总反应的平衡电位为E₀=1.23 V(vs SHE),对应总自由能变 ΔG  = 4.92 eV(4×1.23 eV)—— 这是过电位计算的 “热力学基准”,所有步骤的自由能均需以此为参照。
计算四步反应的ΔG,以下图为例,DFT 计算得到四步 ΔG 分别为:①0.40 eV、②1.81 eV、③1.43 eV、④0.28 eV。
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DOI10.1021/acscatal.1c03737

步骤 2:识别电位决定步骤PDS

PDS 是ΔG 最大的步骤,是反应的瓶颈,需最大额外能量推动,步骤1中 PDS 为第二步,ΔGPDS=1.81 eV。

步骤 3:换算理论过电位

理论过电位是PDS所需的电位与OER平衡电位1.23 V的差值,公式为:
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代入ΔGPDS=1.81 eV,得 η=1.81 V – 1.23 V=0.58 V。
注意:若施加外加电位 U,需确保所有步骤的 ΔG (U) ≤ 0(反应自发进行),此时最小 U 即为实际所需电位,过电位 η=U – 1.23 V
PDOS验证
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DOI10.1021/acscatal.1c03737
上图显示,正极化体相表面的费米能级较负极化表面正向偏移,表明正极化表面电子密度更高。更高的电子密度会增强表面与中间体的吸附作用,导致 PDS 从O形成变为OOH * 形成,过电位升高。
Bader 电荷验证
下表显示,正极化表面的 Sn 原子净电荷为1.82 e,低于负极化表面1.87 e,N 原子净电荷在-1.40~-1.42 e,更负,证实了正极化表面电子密度更高—— 电子密度的差异直接导致中间体吸附强度变化,进而改变过电位。
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DOI10.1021/acscatal.1c03737
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