说明:本文华算科技主要介绍 DFT 能带的计算来源、倒空间采样,以及结构和电子相互作用近似怎样影响能带与相关物理判断。
DFT中的能带是什么计算结果?
周期性晶体中的电子感受到离子和其他电子共同产生的势。DFT 用电子密度描述基态,把相互作用电子问题转写为一组 Kohn–Sham 方程。以常用的 LDA、GGA 为例,电子密度决定 Hartree 势和交换关联势,再与离子势、电子动能项共同组成有效哈密顿量。
在晶格周期性下,波函数可写为 ψnk(r)=eik·runk(r),其中 u 具有晶格周期,n 标记能带。给定波矢 k,求解本征方程得到本征值 εn(k) 和相应波函数;让 k 在布里渊区内变化,便得到能量随晶体动量变化的能带。

TlBiS2 的原胞与六方超胞给出同一晶体的两种表示。晶胞的选取决定倒格子和能带折叠,图中的三维布里渊区及其表面投影则对应不同的周期方向。晶胞增大时,绘出的能带条数可以增加,这不表示材料凭空多出了电子态;比较前须统一晶胞与倒空间坐标。
有效势依赖电子密度,密度又由占据的电子态构造,故求解需要自洽迭代:从试探密度出发求本征态,按占据数重建密度,再更新势,直到变化收敛。结构、电子数和磁序限定了所求的基态模型;含重元素时,自旋轨道耦合还会改变简并、劈裂与轨道混合。
常规能带图画的是上述辅助单电子方程的本征值。电子的真实加减粒子激发涉及多电子响应,LDA、GGA 的本征值带隙常低于实验基本带隙。光学吸收起始还受电子—空穴作用和跃迁选择定则影响,不能拿一个实验光学带隙直接替换图中任意两条线的间距。
自洽计算和能带路径为何使用不同的 k 点?
构造自洽密度时,二维、三维周期体系需要对整个布里渊区内的占据态作带权求和,k 点网格采样相应的面积或体积。能带图中的 Γ、M、K 等高对称点连线只抽取若干方向,沿线增加几百个点能让曲线变细,却无法补足整片倒空间中的密度积分。
对 LDA、GGA,在网格上得到收敛密度后,可固定该密度构造的势,沿路径求本征值。杂化泛函还含依赖占据轨道的非局域交换,仅保存电子密度不足以确定这部分算符。不同方法所需的信息由哈密顿量决定,不能把固定密度的处理方式套给所有能带计算。

MoS2 图中的黑线由 Wannier 哈密顿量插值得到,蓝点来自显式 DFT 求解。局域 Wannier 函数把电子结构写成实空间矩阵元 Hmn(R),再作傅里叶变换得到任意 k 处的矩阵。右侧展示矩阵元随距离衰减,以及截断到近邻时保留的范围;目标能窗内黑线与蓝点的偏差用于检验插值误差。
带边可能位于高对称线以外,输运也常需密集网格上的能量与导数。寻找全局价带顶、导带底时,应在整个布里渊区搜索极值。金属的费米能来自带权占据积分;绝缘体在零温带隙中的能量零点有选择余地,图中把零放在何处本身不能证明掺杂。
怎样追踪结构与计算近似引起的能带变化?
研究压力效应时,在各压力下优化晶格和原子位置,再用一致的电子结构近似计算能带。TlBiS2 的含自旋轨道耦合结果中,随压力变化,Γ 与 F 附近先后发生带隙闭合和重开,轨道权重也随之交换。能量变化与波函数成分的变化可共同追踪能带重排。

图中青色与品红色分别标示 Tl、Bi 的 p 轨道和 S 的 p 轨道权重。这组计算的零压带隙很小,结果对晶格、赝势与交换关联近似敏感。闭合压力属于给定模型的预测;单次曲线交叉不能独立确定实验中的拓扑相,拓扑分类还需波函数相关的不变量或对称性信息。
研究表面时,模型变成面内周期、法向有限的薄层,原先的体能带在法向形成离散子带。TlBiS2(111)薄层图把前八个原子层的态权重画成红色圆点,圆点越大表示该本征态在这些层的投影越多。表面分支的判定还随终止方式、薄层厚度与上下表面的耦合变化。

表面布里渊区的横坐标带有上划线,须按面内动量比较,不能直接套用体晶体的 Γ–L 路径。局域在表面的波函数可以形成色散分支,红点大小并不表示电子数量增加;要讨论界面电荷转移,需另行分析密度差、占据与能级对齐。
层状 BiCuOSe 与 LaCuOSe 的比较则涉及色散相互作用。图中分别使用未加修正、DFT-D3 和 optB86b-vdW 的处理,LaCuOSe 的整体能带形状接近,BiCuOSe 出现小幅变化。层间作用的处理不必引起所有带边同幅度移动,不同轨道在层间的耦合强弱也不同。

标准 D3 增加与原子几何有关的色散能和力,固定几何时不会直接改写 Kohn–Sham 能带;结构重新优化后,键长和层间距的变化可间接改变本征值。optB86b-vdW 还改变交换关联泛函。若要区分几何效应与泛函效应,须分别比较同一几何上的不同泛函,以及同一泛函下的不同几何。
能带怎样与输运和实验光谱对应?
能带斜率给出群速度 vnα=ℏ−1∂εn/∂kα,带边曲率与有效质量张量有关。电导率还要对各态的速度乘积、占据变化和弛豫时间求和。沿一条路径看见更陡的能带,无法单独确定哪个材料的电导率更高,载流子浓度、输运方向与散射都会参与。

BiCuOSe 与 LaCuOSe 图中,上排是弛豫时间 τ,下排是电导率,分别比较 p 型、n 型载流子。这里的 τ 来自含有效质量、弹性常数和形变势的模型,再进入 Boltzmann 输运计算。这些曲线是在指定浓度、温度和散射假设下得到的预测。图中的形变势模型考虑长波声学声子散射,样品内的缺陷与杂质需另建散射模型。
角分辨光电子能谱(ARPES)测量占据电子态的能量和面内动量分布,可检验价带色散。石墨烯上的 GaSe 氧化为超薄 Ga2O3 后,实验中原有的 GaSe 价带特征发生变化,出现较弱色散的氧化物价带,而石墨烯的 Dirac 锥仍然可见。

此图的高对称方向按石墨烯布里渊区标记,能量以费米能为参照;下方 UPS 谱补充功函数与界面能级信息。将 DFT 曲线与它比较时,表面取向、材料结构和能量参照必须一致。ARPES 强度还含光电跃迁矩阵元与寿命展宽,某条计算能带在谱中很弱,不能直接解释为该电子态消失。
普通 ARPES 主要探测占据态,图中的价带信号无法单独给出未占据导带底。实验基本带隙、光学跃迁能与 Kohn–Sham 带隙对应不同的物理量;需要准粒子能量时可采用 GW 等多体方法,需要光学激发时还应处理电子—空穴相互作用。GW 的自能修正属于多体微扰理论,不应写成给 DFT 曲线统一加一个常数。
