TEM文献案例分享:通过调控非等原子CoVFe中熵合金中L12纳米析出相实现高应变硬化能力!

研究背景

中/高熵合金(M/HEAs)凭借独特的微观结构机制,展现出优异的综合性能,其中面心立方(FCC)M/HEAs因出色的延展性和耐腐蚀性,被视为新型结构材料的潜在候选。但多数FCC M/HEAs存在固有矛盾——强度与延展性相互权衡,多数强化机制提升强度的同时会牺牲延展性,且屈服后进一步应变硬化的能力下降,例如超高强度(抗拉强度≥2000 MPa)合金的延展性通常低于10%,如何在室温下平衡 FCC M/HEAs的强度与延展性成为关键挑战。本研究以非等原子CoVFe中熵合金为研究对象,通过改变V的含量,调控L12纳米析出相的体积分数与尺寸,进而增强合金的应变硬化能力,实现强度与延展性的协同提升。

文献链接

DOI: 10.1016/j.jallcom.2025.182855

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研究结果

图1a所示的XRD图谱中,仅观察到与面心立方(FCC)相相关的衍射峰,这表明所有固溶处理的CoVFe中熵合金均为单相FCC结构。图1b的BSE图像显示,合金呈现完全再结晶的显微组织,特征为均匀的等轴晶粒。EBSD的晶粒尺寸定量分析表明,10V、15V、20V和25V合金的平均晶粒尺寸分别为 21.5 μm、23.6 μm、26.5 μm 和 22.8 μm,说明钒(V)含量与晶粒尺寸之间的关联性极小。EDS(图1d)结果表明,三种元素在合金基体中呈均匀的空间分布。

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图1 不同钒(V)含量的固溶处理后 CoVFe 中熵合金(MEAs)的显微组织。 a XRD图谱;b BSE显微图像;c EBSD结果(IPF图与晶界分布图);d EDS图像

 

如图2所示,采用透射电子显微镜(TEM)对固溶处理后CoVFe中熵合金的显微组织进行了详细表征。低倍TEM明场(BF)图像显示,固溶处理后的合金位错密度较低。沿[011] FCC晶带轴的选区电子衍射(SAED)图谱证实,10V和15V合金为单相面心立方(FCC)结构,这与图1a的XRD结果一致。相反,20V和25V合金在[011] FCC晶带轴主FCC衍射斑点的1/2位置处出现了额外的衍射斑点,这表明存在与 L1₂结构相关的超晶格衍射斑点。通过选取标注的(100)衍射斑点所拍摄的暗场(DF)图像显示,20V和25V合金的FCC基体中分布着高密度的L1₂纳米析出相。根据 TEM 暗场图像分析可知,20V合金中L1₂纳米析出相的平均尺寸为5.2±2.6 nm,而在25V合金中,该析出相显著粗化,平均尺寸增至28.8±14.9 nm。

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图2 TEM-BF图像及相应的SAED图谱与DF图像。DF通过选取(100)衍射斑获得,显示L12纳米析出相。

 

为评估固溶处理后CoVFe合金的力学性能,研究开展了室温单轴拉伸测试,相关结果如图3所示。结果显示,与 10V 合金相比,15V合金的屈服强度、抗拉强度与延展性实现同步提升,展现出53.9%的优异延展性,但其屈服强度(358 MPa)和抗拉强度(838 MPa)仍处于相对较低水平。随着钒(V)含量的增加,合金的屈服强度呈逐渐提升趋势,其中25V合金的屈服强度达到 411 MPa,但这是以牺牲延展性为代价的。20V合金展现出最均衡的力学性能,既具备1245 MPa的优异抗拉强度,同时拥有405 MPa的屈服强度和36.8%的延展性。图3c展示了合金的断口形貌,10V、15V和20V合金均表现为韧性断裂,其断口表面特征是存在细小韧窝。与它们不同,25V合金呈现出脆-韧性混合断裂模式,断裂前存在明显的解理面,且颈缩现象不明显,这与其最低的断裂伸长率相符。

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图3 固溶处理后 CoVFe 中熵合金(MEAs)的拉伸力学性能。a 工程应力-应变曲线;b 与a中对应的真实应力-应变曲线及硬化率曲线;c SEM下的断口形貌。

 

变形后10V合金与20V合金的电子背散射衍射(EBSD)结果如图4所示。EBSD结果未发现相变,这表明该合金的变形机制与变形诱导相变无关。晶粒平均取向差(KAM)图显示,随着应变增加,10V 合金与 20V 合金的 KAM 值均逐步升高。如图 6(c)所示,几何必需位错(GND)密度也随应变呈现近乎线性的增长趋势。在相同应变水平下,10V合金的GND密度始终高于20V合金。

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图4 经 5%、15%和 25%拉伸应变后的 CoVFe 合金的EBSD结果。a 10V合金和b 20V合金的IPF与KAM图;c 基于EBSD结果获得的GND密度演变规律。

 

用TEM进一步研究了20V合金经5%拉伸变形后的微观结构演变。如图5a所示,TEM 明场图像及对应的TEM 暗场图像显示,合金中形成了大量堆垛层错(SFs),具体位置如黄色箭头所示。此外,在堆垛层错处观察到显著的位错聚集现象,这表明堆垛层错可作为位错滑移的阻碍体。图5b中的高分辨率透射电子显微镜(HRTEM)观察结果进一步证实了L-C锁的存在。IFFT分析表明,堆垛层错(SFs)通过位错介导的剪切机制穿过了L12纳米析出相。

在塑性变形过程中,堆垛层错网络通过多滑移系交互作用形成(图 5b)。这些纳米尺度的堆垛层错会借助动态Hall-Petch机制限制位错滑移,进而提升合金的应变硬化能力,增强应变硬化效果。此类位错为不可动分位错,因为它们的运动受到两个相交滑移面上堆垛层错带形成的约束。L-C锁的出现会产生额外的钉扎位点,促进位错聚集并显著阻碍位错迁移。因此,L-C锁与L12纳米析出相-位错之间的协同作用,对提升20V合金的应变硬化效率起着关键作用。

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图5 经5%应变变形后的20V合金的TEM图像。a 低倍与高倍放大的BF图像及对应的DF图像;b HRTEM图像,以及对应的快速傅里叶变换(FFT)图谱与反快速傅里叶变换(IFFT)图像。

 

 

本文源自微信公众号:中材新材料

原文标题:《《JAC》:通过调控非等原子CoVFe中熵合金中L12纳米析出相实现高应变硬化能力!|| 中材检测助攻!》

原文链接:https://mp.weixin.qq.com/s/1M4DB1u-bxgAIB7hN0Pxqg

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