X射线光电子能谱仪(XPS)之设备结构、基本原理、应用范围

 

 

 

-表面元素化学分析(1)-

X射线光电子能谱仪(XPS

仪器结构 ✦ 基本原理 ✦ 应用范围

X射线光电子能谱仪(XPS)之设备结构、基本原理、应用范围

一、仪器结构
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1.1
设备组成

X射线光电子能谱仪由进样室、超高真空系统、X射线激发源、离子源、能量分析系统及计算机数据采集和处理系统等组成。其中,激发源、样品分析室及探测器等都安装在超高真空系统中,原因在于,在超高真空下光电子可以避免与残余气体分子发生碰撞损失,另一方面样品表面也可以避免吸附残余气体分子而影响样品结果。

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1.2
工作原理

在超高真空环境下,样品通过传样室传送到分析室,X光源激发到样品上,样品表面的电子被激发出来,经过传输透镜,然后通过电子能量分析器对光电子的动能进行分辨,再通过电子探测器对电子进行计数,最后到达数据采集处理系统进行分析,就可以呈现出最终的X射线光电子能

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光电子能谱仪的原理示意图

 

二、基本原理
2.1  原子结构

原子由原子核以及绕核运动的电子构成,其中,电子在核外以电子云的形状存在,能量不同的电子分布的概率不同,从而对应的运行轨道不同。对于电子的运动状态要从4个方面来进行描述,即它所处的电子层、电子亚层、电子云的伸展方向、电子的自旋方向。

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X射线光电子能谱仪(XPS)之设备结构、基本原理、应用范围核外电子云分布

在量子力学中对应四个量子数分别为主量子数(n),角量子数(l),磁量子数(m)和自旋量子数(ms),电子的运动状态通常由n,l,m三个量子数决定轨道运动,ms决定自旋运动。

 

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主量子数

主量子数(n)对应电子层,也称能层,决定了核外电子离核的远近和电子能量的高低,n=1,2,3,4,5,6……(正整数)对应K,L,M,N,O,P……

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角量子数

角量子数(l)对应电子亚层,也称能级,决定了电子在原子核外出现的概率密度随空间角度的变化。l= 0,1,2,3……n-1对应符是s,p,d,f……

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磁量子数

磁量子数(m)规定电子运动状态在空间伸展的取向。m的数值可取0,±1,±2……

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自旋量子数

自旋量子数(ms), 电子除绕原子核运动外,它本身还做自旋运动,自旋有顺时针和逆时针两个方向分别用±1/2表示。

 

当电子层越靠近原子核,电子的能量越低,结合能越大,电子越远离原子核,电子的能量越高,电子的结合能则越小。

元素核外电子的结合能

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不同元素的同能级的核外电子结合能存在差异。

2.2  X射线光电子
当一束光子辐照到样品表面时,光子可以被样品中某一元素的原子轨道上的电子所吸收,使得该电子脱离原子核的束缚,以一定的动能从原子内部发射出来,变成自由的光电子,而原子本身则变成一个激发态的离子。
X射线光子的能量在1000-1500eV之间(如Al Kα X光子能量为1486.6 eV),其不仅可以使分子的价电子电离,而且还可以使内层电子激发出来,一般内层电子不参与化学反应,也不影响化学性质。当X光子与电子碰撞时会产生能量交换,结合能低于光子能量的电子会被激发出来,整个过程可以用爱因斯坦光电发射定律来表示:
hv = Ek + Eb+ Er
式中,Ek为出射的光电子动能;hv为X光子的能量;Eb电子的结合能Er是原子的反冲能量。Er很小,可以忽略。

❖ 光电发射定律

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当元素所处的化学环境不同时,元素核外电荷会进行重新排布,其结合能会有微小的差别,表现为XPS图谱会向高结合能端或低结合能端偏移,也称化学位移。由化学位移的大小可以确定元素所处的状态。例如某正价态下原子核外会失去电子,其轨道上电子的结合能会增加,负价态下原子核外会得到电子,轨道电子的结合能会降低。

氧化石墨烯(GO)XPS全谱和C1s精细谱

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C-C中C1s结合能较低,C-O次之,C=O较高。

对S壳层的电子来说,不发生自旋分裂,在谱图上呈现单峰。而对于 p,d,f 壳层的电子而言,则会由于其分裂为两个能级,在谱图上表现为双峰且两峰的面积比一般为2p1/2:2p3/2=1:2;3d3/2:3d5/2 = 2:3;4f5/2:4f7/2=3:4。

X射线光电子命名方法

X射线光电子是以元素被激发电子所在能级命名,如O1s,C1s,Ni2p3/2等,用两个数字和一个小字母组合表示。
以Ni2p3/2为例:第一个数字2代表主量子数(n);小写字母p代表角量子数;左上角的分数3/2代表内量子数(角量子数与自旋量子数的矢量和,用字母j表示),j=|l±1/2|。

 

三、应用范围
XPS主要应用于表面化学分析,分析深度一般小于10nm,能够得到材料表面的化学成分信息(包括元素种类,含量以及化学态等信息),进一步推断出材料表面的分子构成或分子结构等,对于材料开发,材料的刨析,失效机理分析研究等具重要作用。目前,XPS成分分析技术手段已经广泛的应用材料学、表面化学、催化剂、半导体、涂/镀层等科学领域。

 

 

本文源自微信公众号:国家石墨烯质检中心 广东

原文标题:《表面化学分析(1)-X射线光电子能谱仪(XPS)之设备结构、基本原理、应用范围》

原文链接:https://mp.weixin.qq.com/s/lVYLCyjY63-03MiSHuLZuA

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