表面羟基化怎么建模?从局域配位与候选构型到不同终止结构的化学环境能量比较

说明:本文华算科技主要介绍羟基化表面的原子计量与局域配位、羟基和水共存时的候选构型,以及不同终止结构在化学环境下的能量比较。

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羟基化表面基础模型包含哪些原子?

从体相切出有限厚度的 slab 后,最外侧金属和氧失去部分近邻,形成特定晶面与终止层。表面羟基化描述与固体相连的 O–H 基团的形成。模型包含基底原子、表面氢氧物种和所选电子数;真空中的 •OH 自由基、溶液中的 OH− 与固体上的羟基分别对应不同的化学环境。

金属位上保留两根 O–H 键的配位水记为 H2O;氧结合一个 H 的表面基团可归入羟基。端位与桥位羟基的氧分别连接一个、两个或更多金属。水来源与晶格来源的氧可能具有不同金属近邻,结构统计据此记录氧原子来源、H 近邻数和金属配位。

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图1. α-Fe2O3(0001) 上的解离水结构,以及高、低 Fe(OH)3 单元覆盖度的羟基化结构。DOI:10.1021/acsomega.4c02113

赤铁矿 (0001) 的候选结构既有水在干表面解离的模型,也有Fe(OH)3 配位单元构成的终止。后一类包含金属与氧氢计量的调整,原子数变化必须写入模型定义。把裸 slab 的顶层完全固定,再任意补 O 和 H,会预先排除金属迁移、配位重排和部分终止结构。

以中性水为原子来源时,每添加一分子只增加一个 O、两个 H 和相应电子;独立添加 OH 则增加一个 O、一个 H。加 H 原子与加 H+ 的电子计数不同:中性 H 带入一个核电荷及一个电子,质子只带入核电荷。吸附后某基团的形式电荷不决定整个晶胞净电荷,电荷转移仍由基底和吸附物的共同电子结构求得。

羟基面密度可写为 σOH=NOH/A,单位为 nm−2,其中原子计数与面积对应同一侧表面。覆盖度的分母必须明确:金属位点数、可质子化氧位点数和表面原胞数会给出不同数值。图1中的 θ[Fe(OH)3] 统计配位单元,每个单元含三个羟基,不能把单元覆盖度直接当作羟基位点覆盖度。

周期 slab 沿法向截断后具有上下两个表面。两面采用相同羟基化终止时,羟基数和能量均包含两侧贡献;只修饰一侧则可能产生垂直于表面的晶胞偶极。过薄 slab 会使正背面结构与电荷耦合,周期镜像间的电场又可改变 O–H 取向;slab 厚度和真空间距分别控制这两类误差。

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候选构型怎样覆盖局域配位和氢键变化?

水与羟基共存时,配位和质子位置须共同变化

低覆盖度下分开的 O–H 基团,与未解离水形成氢键后,可出现不同的稳定构型。赤铁矿 r 面的水层包含羟基与水组成的部分解离二聚体,减少水覆盖会留下空吸附位。水层由羟基、水、空吸附位及氢键排列共同组成,其水覆盖与羟基覆盖分别计数。

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图2. 赤铁矿 r 面的裸表面、两种部分解离水覆盖结构,以及对应的 D2O 程序升温脱附谱。DOI:10.1038/s41467-021-26601-4

同一原子计量下,可比较相邻或分散的羟基、不同受氢氧位点、水分子的供氢与受氢排列,以及多个起始 O–H 朝向。几何弛豫只搜索所处的局部势能区域,一次优化可能保留起始排列,也可能发生质子转移。候选集中应同时记录优化后的化学身份和原子连接,避免把已经复合成水的初始 OH 继续计入羟基数。

水在表面迁移时,O–H 键与金属–O 键可能共同变化。赤铁矿 r 面的 DFT 路径包含伴随晶格氧交换的构型,说明把所有基底氧永久锁在原位会排除一类反应。若研究羟基寿命或转移速率,可在已优化初末态之间求取反应路径,识别局部最低能结构之间的能垒。

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图3. 赤铁矿 r 面上伴随或不伴随氧交换的水扩散构型,以及 DFT 最小能量路径与直接脱附能量。DOI:10.1038/s41467-021-26601-4

原图的能量轴来自 0 K 静态 DFT,描述特定路径的势能变化;液态水中质子转移还受到水分子涨落和氢键重排影响。一条最低能路径与有限温度的结构分布回答不同的问题。较低的终态能量可以支持结构筛选,达到该终态所需时间则还受路径能垒和实验处理历史影响。

羟基配位变化可能伴随基底还原与重构

Fe(OH)3、Fe(OH)2 和 Fe(OH) 型结构含有不同的金属、氧、氢比例。对可还原氧化物,候选终止应覆盖金属配位与局域电子占据的变化,而非只在同一裸表面逐个减少 H。氧缺位、水氧补位、表面金属重排和残留分子水,会改变可参与羟基化的位点集合。

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图4. α-Fe2O3(0001) 上以 FeO、Fe(OH) 与 Fe(OH)2 单元描述的还原表面结构。DOI:10.1021/acsomega.4c02113

铁氧化物的结构排序对自旋有序和局域 d 电子的处理敏感。比较羟基化与还原终止时,泛函、U 修正及能量参照应采用一致定义,并检查竞争磁态的收敛结果。Bader 电荷给出电子密度分区后的数值,形式价态还涉及化学计量、配位与电子占据,二者分别按各自定义分析。

较小的横向晶胞会强制羟基按同一周期重复,限制分散、成簇或反向排列。扩大横向晶胞而保持面密度,可以检验相邻 O–H 的静电作用与氢键贡献。自由表面上的终止基团和底部用于消除人工悬挂键的钝化基团,也应分别计数,后者不能作为活性表面的羟基覆盖。

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不同计量的羟基化模型怎样比较与取舍?

原子数、电子数、表面积和计算方法相同的构型,可以按总能差比较其静态稳定顺序;原子计量不同,则必须计入与环境交换物质的化学势。相对参考结构可写为 Δγ=[Gslab−Gref−ΣiΔNiμi]/Aexp,ΔNi 为交换的组分数,Aexp 为参与比较的表面积。

两侧完全相同的 slab 可按两面总面积归一;只改变一侧、背面保持相同并已消除显著耦合时,可用同背面的参考 slab 扣除背面贡献。添加原子的能量成本必须随参考物种定义:中性水、氢气、氧气或质子与电子库,对应不同反应计量。以 DFT 总能近似固体 G 时,气相化学势仍须包含温度和分压;相近候选的顺序可能受零点与振动自由能修正影响。

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图5. α-Fe2O3(0001) 候选表面相对干表面的自由能,以及随温度和水蒸气分压变化的相图。DOI:10.1021/acsomega.4c02113

赤铁矿候选表面随水化学势变化产生不同的自由能斜率,温度与水蒸气分压又改变 μH2O。在该候选集及计算条件下,低覆盖与高覆盖终止各有稳定区间。这些区域由曲线下包络确定,表示平衡结构排序;实验中保留的脱水表面还可能受质子迁移或脱附动力学限制。

涉及金属数变化时,金属化学势须纳入物质交换项。若表面与体相 α-Fe2O3 平衡,则有 2μFe+3μO=gbulk,μO 按氧原子计,gbulk 为每化学式单元的体相自由能。还原环境也会改变体相的稳定范围;氧化学势低到磁铁矿成为稳定体相时,固定赤铁矿基底的表面相图只能描述受限的候选结构。

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图6. α-Fe2O3(0001) 终止结构在水与氧化学势、水与氢化学势下的相图及体相稳定范围。DOI:10.1021/acsomega.4c02113

若计算目标是浸液后的活性位,羟基化表面还须允许水合配位与基底原子重排。Ca3Al2O6/水界面的第一性原理动力学与增强采样研究,把表面质子化、Ca 水合、溶出及后续沉淀联系起来。固定全部基底原子的羟基模型会排除这些结构变化,适用对象应限定为仍保持该终止的表面。

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图7. Ca3Al2O6/水界面中表面质子化与羟基化、Ca 水合配位、溶出和沉淀的过程示意。DOI:10.1038/s41467-024-47164-0

显式水与表面之间的 O–H、金属–O 配位数、未解离水数量及表面原子位置,可用于识别轨迹中的化学组成。有限时间内没有发生转移或溶出,仅表示该过程未在所采样时间内出现。针对某个羟基化终止的吸附能计算,应对应这一终止;研究浸液后的实际位点,则应比较已经出现的质子化、重构与水合结构。

水蒸气表面相图使用气相物质库;浸液模型还涉及水活度、离子溶剂化和表面酸碱反应。M–OH 与 M–O−、M–OH2+ 的比例随质子化自由能与溶液 pH变化。指定 H 数固定了模型组成;外部溶液 pH 由质子活度定义,二者通过表面酸碱平衡相连。

带净电荷的周期 slab 还包含人工补偿电荷及镜像静电作用。电中性的离子配对模型与电极交换电子模型具有不同的电荷约束;反离子的位置、界面电势和电子参照会影响质子化自由能。真空层或偶极修正可处理部分周期伪作用,却不能替代对电解液和电极物质库的定义。

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