VASP | 理论计算常见问题解答-18

Q1:朱老师,不在同一平面的结构做不出完整的ELF图吗,总是少一部分

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A:正常,切面只能是共面效果最好

Q2:朱老师您好 我算的dos 其中total dos有个别峰都达到1000ev 其余大部分也都在400 500 成键原子间的dos却比较小可能都不到1ev 是参数设置的有问题吗

A:ismear=0, sigma=-0.1

Q3:朱老师您好!请问功函数的计算中,构成异质结的两种材料都是半导体才可以计算吗?

A:不是,都可以算

Q4:朱老师,我最近在对CeO2的111面,做结构优化,但是一直不收敛。我是先对块体惯用胞进行结构优化,自洽后再切面111 两层,并得到一个六层的结构,固定两层后进行结构优化

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A:考虑一下磁矩调整MAGMOM

Q5:朱老师您好,请问吸附能,结合能,吉布斯自由能哪个能判断结构的稳定性?这三种有啥区别?

A:计算方法不一样,稳定性看吸附能,自由能主要是电催化用

Q6:朱老师 我计算C3N4 OER吸附路径时发现它形变很大,这个程度是可以接受的吗

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A:正常cn这个材料就是会这样

Q7:朱老师晚上好,请教一个问题,我用aimd跑了一个初始构型,之后用来算恒电势DFT,保留了水分子,采用vaspsol++计算的,这是计算过程的能量,波动很大,请问这个时候的计算结果可信吗

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A:模型太小了,调整重新跑下看看

Q8:朱老师您好 我想请教一下,高熵合金结构优化的时候,是要ISIF=3进行优化吗?  以及,我可不可以限定α,β,γ角不变进行优化

A:一般要放开优化

Q9:朱老师,结和实验根据质谱推算出一个团簇结构,我建模结构优化一直散架,换了几种构型都散架,是因为结构不合理吗?

A:是的,构型问题

Q10:朱老师您好,算过渡态时初末态是优化后找到能量的最低点,中间的插点能量会比最低点能量还低怎么解释呢?

A:调整一下过渡态路径和初末点

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