朱老师讲VASP | 理论计算答疑合集019

Q1:朱老师,结构优化之后就是说理论上比原结构更稳定吗?

A:结构优化过程是释放了结构的应力,从能量上看是要比优化前的结构更稳定

Q2:朱老师,想问一下,那种百分之几甚至千分之几的掺杂,该怎么处理呀?

A:计算来说很难满足这种比例的微量掺杂,或者说必须要构建非常大的模型,这样对于计算来说是不现实的。可以转换一下思路,定性研究一下有无掺杂对体系的影响。

Q3:朱老师,掺杂和吸附有什么区别呢?

A:掺杂一般是指的体相内,吸附一般指的是在表面模型上吸附原子或分子。

Q4:朱老师,现在这个体系钠掺杂替换Mg,电中性被破坏了,这个问题计算的时候如何考虑呀?

A:VASP计算会自动中和价态使得体系保持电中性,不需要额外设置

Q5:朱老师,有机分子晶体优化时,是使用物理晶胞,还是使用初级晶胞。物理晶胞很多原子会出现在晶胞外。

A:VESTA软件显示问题,实际上原子都在晶胞内。

Q6:老师,VASP官网上有一个Si晶格常数优化的例子,修改POSCAR中的比例系数,这和INCAR设置ISIF=3进行结构优化得到的晶格常数有区别吗?

朱老师讲VASP | 理论计算答疑合集019

A:没有实质性的区别,官网例子是控制变量(晶格常数)来进行优化测试,用ISIF=3是全放开优化,两种方法最后优化出来的结果应该差不多。如果只是想得到稳定的结构,用ISIF=3优化是比较省心,效率比较高的方法。

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