TEM
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扫描透射电镜(STEM)的相干与非相干成像解析:原理、探测器选择与应用策略
总结:本文详细介绍了扫描透射电镜(STEM)中相干成像与非相干成像的核心概念、特性差异、关键影响因素,以及部分相干成像的特点,同时阐述了不同探测器(ADF、HAADF、cBF)对成…
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冷冻电镜(Cryo-EM):原理、技术挑战与应用场景
总结:本文详细介绍了冷冻电镜(Cryo-EM)的定义、发展历程、核心技术分类(含冷冻透射电子显微镜Cryo-TEM与冷冻传输扫描电镜Cryo-SEM),深入阐述了 “为何需要冷冻样…
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EDS平插能谱技术特点与多领域应用案例解读:助力高效开展材料分析与科研探索
总结:本文详细介绍了平插能谱的核心技术特点,包括四独立集成 SDD 探测器的环形设计、高立体角、高输出计数率、适配低加速电压与低探针电流的优势,以及在规避阴影效应、裙散效应等方面的…
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透射电镜TEM的成像原理及图像解释
说明:本文由华算科技整理,通过阐述透射电镜与传统显微镜的差异,透射电镜图像衬度的形成机制,包括相位衬度和振幅衬度(质厚衬度、衍射衬度),质厚衬度和衍射衬度的原理及其在不同试样中的特…
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冷冻透射电子显微镜(cryo-TEM)在化学材料领域的应用——综述推荐
总结:本文以中国科学院化学研究所冷冻电镜平台的研究成果为基础,介绍了冷冻透射电子显微镜(cryo-TEM)技术的发展背景、核心优势,以及其在化学材料领域的六大典型应用(不耐电子束损…
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聚焦离子束-扫描电镜(FIB-SEM)分析技术与附件应用
总结:本文先简要回顾扫描电镜(SEM)的工作原理(逐点扫描成像)与核心构造(电子光学系统、信号收集系统、真空系统),再重点介绍聚焦离子束-扫描电镜(FIB-SEM)的常用分析技术(…
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聚焦离子束-扫描电镜(FIB-SEM)作用原理与关键部件特性
总结:本文围绕聚焦离子束(FIB)展开,详细介绍了FIB与物质相互作用的基本原理(电子束、离子束、超短脉冲激光束与物质作用产生的信号及应用场景),系统阐述了FIB的三大核心部件(电…
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SEM与TEM技术应用于层状纤维素复合材料微观结构表征分析
总结:本文围绕层状纤维素复合材料的微观结构表征展开,介绍了针对纤维素纳米晶基复合材料两种核心样品制备技术(液氮脆断法、超薄切片法),以及扫描电子显微镜(SEM)、透射电子显微镜(T…
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场发射透射电镜(TEM)常见故障排查与解决指南
总结:在本文中,读者可学习到不同故障的识别依据(如UI界面提示、设备状态异常表现)与分级处理逻辑(小故障自主排查、严重故障联系工程师),掌握真空恢复、Ceta相机降温、X轴漂移校准…
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FIB-SEM: 二维成像、三维断层扫描与TEM薄片制备
总结: 作为材料研究中的多功能强大工具,聚焦离子束–扫描电镜(FIB-SEM)可实现多尺度多维度的精细微观结构分析。之前的文章主要介绍FIB-SEM中的聚焦束与物质相互…
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透射电子显微镜(TEM)深度解析:核心原理、关键构成与部件功能
总结:本文详细介绍了透射电子显微镜(TEM)的发展背景、核心工作原理、与扫描电子显微镜(SEM)的关键差异,以及TEM的三大核心系统(电子光学系统、真空系统、控制系统)及主要部件(…
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扫描电子显微镜(SEM)荷电效应:形成机制、影响及消除方法指南
总结:本文先对SEM中常见电子信号(二次电子、背散射电子、透射电子)与衬度的关系进行总结,随后重点聚焦SEM观察中的荷电效应——详细介绍其形成原因(不导电 / 导电不良样品电荷积累…
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扫描电子显微镜(SEM)像衬度形成原理:从信号机制到实际应用
总结:本文详细介绍了扫描电子显微镜(SEM)像衬度的核心形成原理,重点阐述了形貌衬度、原子序数(成分)衬度、磁衬度、电位衬度、电子通道衬度(ECC)及密度衬度的产生机制,结合二次电…
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扫描电子显微镜(SEM)基础原理:工作方式、电子-样品相互作用信号解析
总结:本文详细介绍了扫描电子显微镜(SEM)的基本工作原理及电子与样品相互作用产生的各类信号(二次电子、背散射电子、特征X射线等),涵盖不同信号的产生机制、能量与穿透深度特性、产额…
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FIB 制样损伤修复指南:非晶层问题解析与氩离子修复技术应用
总结:读者可系统学习到FIB制样的操作逻辑与非晶层损伤的形成机制,掌握用氩离子技术去除非晶层的实操要点,了解不同TEM制样方法的适用场景与损伤控制策略,为高精度TEM表征提供样品制…
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场发射扫描电镜(FE-SEM)在锂电硅基负极表征中的应用:性能分析与工艺优化
总结:本文重点阐述了场发射扫描电镜(以Apreo2为例)在硅基负极表征中的具体应用 —— 通过 T1/T2/T3探测器多维度观察循环前后硅基负极的形貌、导电网络及SEI膜变化,辅助…
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TEM 在半导体领域的应用:工艺开发与失效分析案例详解
总结:在本文中,读者可系统学习到利用TEM/HRTEM测量半导体器件关键尺寸(如栅极氧化物厚度、界面层厚度)、分析材料微观结构(如晶粒形态、相组成)的实操思路,掌握半导体失效模式(…
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半导体工业TEM样品制备技术:方法演变、FIB应用与损伤控制
总结:在本文中,读者可系统学习到半导体TEM样品(横截面 / 平面)的针对性制备步骤、FIB技术在特定区域样品制备中的要点,掌握FIB损伤层控制与样品转移的关键技巧,了解不同制备方…
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扫描电镜(SEM)技术全解析:成像原理、核心结构、信号采集与应用指南
总结:本文围绕扫描电镜(SEM)技术展开,系统介绍了SEM的成像原理(电子束扫描与信号检测)、核心结构(电子枪、真空系统、电磁透镜、探测器等)、电子束与样品的相互作用机制(弹性 /…
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扫描电镜(SEM)操作指南:如何获得高质量的SEM图片
总结:本文围绕 “如何获得高质量SEM图片” 展开,详细介绍了SEM高质量图片的8大评价标准,并从样品制备、仪器参数调整、常见成像假象解决三大核心维度,结合具体案例与图表提供实操方…