自由激子是半导体材料中一种重要的光学和电子激发态,其在光电子器件、发光二极管(LED)、激光器、量子计算等领域具有广泛的应用前景。自由激子的形成、动力学行为及其复合机制是研究半导体材料光学性能的关键。
以下华算科技将从自由激子的定义、形成机制、动力学特性、复合过程以及在不同材料中的表现等方面进行详细阐述,并结合相关文献证据进行分析。
自由激子的定义与形成机制
自由激子是指在半导体材料中,电子与空穴在光激发下形成的一种准粒子态,它们在空间上分离但通过库仑相互作用结合在一起。这种结合态类似于水滴,具有一定的稳定性,但与束缚激子不同的是,自由激子的电子和空穴并未被限制在特定的原子或分子内,而是可以在材料中自由移动。
自由激子的形成通常发生在光激发后,电子从价带跃迁到导带,留下空穴,从而形成电子–空穴对。在某些条件下,这些电子–空穴对会形成激子,即电子与空穴在空间上分离但通过库仑力相互吸引,形成一个稳定的激子态。

在半导体材料中,自由激子的形成与材料的能带结构密切相关。例如,在ZnO薄膜中,随着生长温度的升高,晶格尺寸增大,激子的束缚能降低,从而有利于自由激子的形成。
此外,自由激子的形成还受到材料的缺陷浓度、晶格常数、声子模式等因素的影响。例如,在CuAlO2薄膜中,随着沉积激光能量的增加,薄膜厚度和晶粒尺寸增大,导致自由激子的复合发光峰在可见光区的平均透射率下降。
自由激子的动力学特性
自由激子的动力学行为是研究其在材料中演化过程的重要内容。自由激子的寿命、扩散系数、复合速率等参数直接影响其在光电器件中的应用效果。例如,在ZnO纳米晶中,研究者通过变温光致发光(PL)光谱和时间分辨光谱测试,发现自由激子的发光峰在室温下仍然存在,并且其强度与泵浦功率密切相关。
此外,自由激子的复合过程可以分为直接复合和间接复合两种类型。直接复合是指自由激子直接回到基态,而间接复合则涉及激子与声子、缺陷态之间的能量转移。
在某些材料中,自由激子的复合过程还受到激子–激子碰撞和电子–空穴等离子体的影响。例如,在InGaAsSb/AlGaAsSb多量子阱材料中,随着退火温度的升高,自由激子的复合峰逐渐蓝移,表明激子的复合速率加快,同时局域载流子复合的比例降低。
这表明,通过调控材料的晶体质量和应力状态,可以有效改善自由激子的复合特性,从而提高材料的发光效率。
自由激子的复合机制
自由激子的复合机制是其在光电器件中发光的关键。自由激子的复合可以分为直接复合和间接复合两种类型。直接复合是指自由激子直接回到基态,释放出光子;而间接复合则涉及激子与声子、缺陷态之间的能量转移。
例如,在ZnO薄膜中,室温下的紫外发光主要来源于自由激子的复合,而深中心相关的可见光发射则可能来自缺陷态或表面态。此外,自由激子的复合过程还受到材料的缺陷浓度、晶格常数、声子模式等因素的影响。
在某些材料中,自由激子的复合过程还受到激子–激子碰撞和电子–空穴等离子体的影响。例如,在Cs3Bi2Br9钙钛矿中,自由激子在Sb掺杂后引入的非本征自陷态中被捕获,随后经历冷却和衰减过程,最终通过辐射复合发射宽带光。
这种复合机制不仅影响了材料的发光特性,还为设计新型光电器件提供了理论支持。

自由激子在不同材料中的表现
ZnO薄膜
ZnO是一种典型的宽禁带半导体材料,其自由激子的发光特性在多个研究中被广泛探讨。例如,在ZnO薄膜中,随着生长温度的升高,晶粒尺寸增大,自由激子的发光峰逐渐蓝移,表明激子的束缚能降低。
此外,ZnO薄膜的紫外发光主要来源于自由激子的复合,而深中心相关的可见光发射则可能来自缺陷态或表面态。激光辐照可以调控ZnO薄膜中的缺陷浓度,从而影响自由激子的发光强度和位置。
CuAlO2薄膜
CuAlO2是一种宽带隙半导体材料,其自由激子的发光特性在多个研究中被报道。例如,在CuAlO2薄膜中,随着沉积激光能量的增加,薄膜厚度和晶粒尺寸增大,导致自由激子的复合发光峰在可见光区的平均透射率下降。
此外,CuAlO2薄膜的自由激子发光峰位于350nm附近,表明其在光电子领域如发光二极管的应用具有重要意义。
钙钛矿材料
钙钛矿材料因其独特的光电性能而受到广泛关注。例如,在一维钙钛矿量子带中,随着八面体宽度的增加,自陷态激子逐渐转变为一维自由激子,带来了强的面内各向异性,偏振度可达60%。
此外,一维钙钛矿材料表现出明显的一维各向异性生长,形成微米线形态,为研究激子与腔光子的强耦合提供了平台。在Cs3Bi2Br9钙钛矿中,自由激子在Sb掺杂后引入的非本征自陷态中被捕获,随后经历冷却和衰减过程,最终通过辐射复合发射宽带光。

铜基金属卤化物
铜基金属卤化物因其独特的发光特性而受到关注。例如,在(C19H18P)2Cu4I6中,高能光激发下,电子从基态跃迁到激发态,形成自由激子;
接着大多数自由激子弛豫到MLCT/HLCT态,从而产生高能发射带;部分自由激子弛豫到相对较低的CC态,导致低能发射带的形成。此外,(C19H18P)2Cu4I6在水、乙酸乙酯和异丙醇中储存30天后,仍可保持高效黄光发射,其PLQY分别为84.3%、87.9%和80.7%。
里德堡激子
里德堡激子是一种特殊的激子态,其在半导体中具有较大的响应范围和较强的相互作用。例如,在固态体系中,“捕捉”到里德堡激子,这一发现为量子计算和光子器件的发展提供了新的思路。
里德堡激子的形成与自由激子不同,它通常在高能激发下形成,并且具有较长的寿命和较大的斯托克斯位移。
总结
自由激子是半导体材料中一种重要的光学和电子激发态,其形成、动力学行为和复合机制是研究半导体材料光学性能的关键。自由激子的形成与材料的能带结构、缺陷浓度、晶格常数等因素密切相关。
其动力学行为包括直接复合和间接复合,而复合过程还受到激子–激子碰撞和电子–空穴等离子体的影响。在不同材料中,自由激子的表现各异,如在ZnO薄膜中,自由激子的发光峰主要集中在紫外区域;
在钙钛矿材料中,自由激子的发光特性具有强的各向异性和高偏振度;在铜基金属卤化物中,自由激子的发光特性可用于制备高效的白光LED和荧光墨水。此外,里德堡激子的发现为量子计算和光子器件的发展提供了新的思路。
未来,随着对自由激子研究的深入,其在光电子器件、量子计算等领域的应用前景将更加广阔。