表面亲疏水性解析:接触角、分子吸附、界面水层及官能团与粗糙度作用

说明:本文华算科技主要介绍水在固体表面的接触角、分子吸附与界面水层,以及表面官能团和粗糙度怎样改变亲水性与疏水性。

表面亲疏水性解析:接触角、分子吸附、界面水层及官能团与粗糙度作用
表面亲疏水性解析:接触角、分子吸附、界面水层及官能团与粗糙度作用

亲水性与疏水性的基本定义是什么?

表面亲疏水性解析:接触角、分子吸附、界面水层及官能团与粗糙度作用

在平整固体表面上的水滴,三相接触线附近的液面与固体表面形成水侧接触角 θ。常以 θ 小于 90°称亲水,大于 90°称疏水。这一分法描述指定环境和表面状态下水滴的形状,同一材料换了表面终止、空气暴露时间或测试液体,θ 都可能改变。

对化学组成均匀、平整、刚性的理想表面,平衡接触角满足 Young 方程:γSV-γSL=γLVcosθ。三个 γ 分别对应固体—气体、固体—液体和液体—气体界面自由能。液体是水且气相固定时,θ 较小表示用固—液界面取代固—气界面在自由能上更有利;方程没有把材料压缩成一个固定的“亲水常数”。

石墨与石墨烯的接触角实验同时采用空气中的静滴和水中的气泡。测角约定和暴露历史会进入结果:水中气泡法需要将气泡侧读数换算成水侧接触角;石墨烯在空气中放置后,吸附的碳氢污染物会改变表面能。图中石墨静滴与气泡法所得水侧接触角接近,而承载于 PMMA 的石墨烯随暴露时间呈现接触角变化。

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图1. 石墨和石墨烯的静滴、气泡测角,以及石墨烯空气暴露后的接触角与表面能变化。DOI:10.1038/s41467-018-06608-0

Young 方程还给出水对理想表面的黏附功 Wad=γLV(1+cosθ)。这里的 Wad 指两块宏观相接界面分离的自由能代价,包含界面附近许多水分子的重排。真空计算中把单个 H2O 分子吸附到表面得到的能量,参照态、覆盖度和熵项都不同,不能把它直接代入接触角公式。

分子动力学也能得到接触角:先在模拟盒内形成水滴,再以平均水密度轮廓确定液滴边缘并拟合切线。有限尺寸的纳米液滴受线张力、接触线钉扎和采样时间影响。图中的曲线在模拟初期仍随时间移动,读数应取足够长时间后的稳定区间,并说明采用的是圆柱形液滴与特定密度阈值。

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图2. 粗糙二氧化硅上的圆柱形水滴、密度轮廓拟合方法与模拟接触角随时间的变化。DOI:10.1038/srep13790

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表面官能团怎样影响水的铺展?

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同一基底上改变末端官能团,可以把粗糙度和化学组成的影响分开观察。自组装单层的甲基端与水之间主要是较弱的色散作用;羟基、羧基或磺酸基则可与水形成氢键或较强的静电相互作用。极性基团的种类、密度与电荷状态共同决定界面水的取向,单用元素电负性排列亲水顺序并不成立。

一组末端基团自组装单层实验中,-CH3 的水接触角为 98.10°±3.19°,-SO3 为 32.50°±1.78°;-OH、-COOH 和-NH2 分别约为 61°、51°和 67°。各组表面粗糙度均低于约 1.3 nm,图中又用 XPS 核对了末端化学。氨基与羧基混合端约为 82°,与两种纯端基的接触角平均值不同。

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图3. 六种末端基团自组装单层的分子结构、水接触角照片和对应 XPS 谱。DOI:10.1038/s41467-025-55993-w

第一性原理计算通常先比较水分子在不同位点的构型和吸附能,Eads=E表面+水-E表面-E水。按这个定义,吸附能更负表示所选模型中该吸附构型更有利。电荷密度差、静电势和氢键几何能够指出作用来自哪里;水分子转向、表面质子化及覆盖度增加后,原先最稳定的孤立吸附位点未必仍占优势。

SiO2 与乙基桥连有机硅 PMO 的对照把实验接触角和 DFT 水相互作用能放在同一图中。SiO2 的接触角约 6.8°,PMO 约 35°,两者都处于亲水范围,只是前者在该实验条件下更易被水铺展。论文计算模型中的水相互作用能在 SiO2 上更负,静电势图也显示两种表面对带电物种的作用存在差别。

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图4. SiO2 与乙基桥连 PMO 的水接触角、静电势及 DFT 水相互作用能,并列给出选择性组装结果。DOI:10.1038/s41467-023-40017-2

图中 DFT 数值来自论文选定的结构和参照态,实验接触角则反映大量水分子、表面位点与空气共同形成的平衡界面。若表面有羟基密度差、吸附杂质或不同质子化状态,单水分子的吸附能排序可能保持,接触角的差值仍会改变。计算中的局部结合与实验中的整片液滴对应两个尺度,解释时应把二者各自的条件写清。

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水密度缺口怎样体现疏水界面?

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沿表面法向统计水氧原子数密度,靠近固体时通常会出现振荡,第一个密度峰的位置反映水分子偏好的高度;峰的强度还受表面原子排列和水分子取向影响。若水与末端原子之间出现低密度区,称为疏水间隙。低密度区的宽度反映局部排水程度;宏观接触角还取决于固—气和液—气界面的自由能。

甲基与三氟甲基修饰的粗糙二氧化硅分子动力学图像给出直观对照。CF3 端基附近的水密度缺口更明显,凹槽数量增加时缺口宽度也增加;CH3 端基上的水更容易接近固体。图中的剖面为模拟末段时间平均,瞬时快照里看到的一处空隙,还需由密度分布判断其是否持续存在。

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图5. CH3 与 CF3 修饰粗糙二氧化硅的水分子快照、界面密度剖面及疏水间隙宽度。DOI:10.1038/srep13790

疏水间隙内的水仍受固体的色散力作用。水—水氢键网络和凹槽中的气液界面也在决定局部密度。高曲率纳米凹槽、有限液滴和宏观平板对应的压力及毛细凝聚条件不同,缺口大小不能直接搬到另一个尺度。若讨论电极或氧化物的实际湿润,还需把离子、表面电荷与溶解气体纳入界面环境。

亲水表面也可能有分层水:第一层水与表面位点成键,第二层才恢复较接近体相的氢键分布。把“有明显密度峰”当成亲水证据会漏掉疏水表面上的水层振荡;峰与固体表面的距离、低密度区和水分子取向应一起查看。单个水分子吸附能给出局部位点信息,多水分子动力学才显示水层的空间分布与波动。

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粗糙度和环境怎样改变表观接触角?

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真实表面上的液滴跨越多个凸起和凹槽。水进入凹槽、沿实际固体面积接触时,可用 Wenzel 状态描述;凹槽内保留气体时,液滴主要接触凸起和气液界面,对应 Cassie–Baxter 状态。两种状态的关键差别是水在纹理内部的位置。仅由表面粗糙度数值,无法得知水是否灌入孔隙。

连续介质的 Wenzel 关系用粗糙度因子放大平面表面的 cosθ:平面本来亲水时,理想完全浸润往往令表观角更小。原子级凹槽的模拟却观察到 CH3 端基粗糙表面的接触角上升,这与接触线钉扎、局部水密度以及尺度很小有关。CF3 端基凹槽下保留气相间隙,图中的液滴呈 Cassie 型接触。

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图6. 粗糙表面接触角关系与 CF3、CH3 端基凹槽上液滴的不同接触状态。DOI:10.1038/srep13790

同一纹理在加压、浸泡或反复推进与后退液滴时,接触状态也可能改变。前进角与后退角的差值记录接触线在缺陷处被钉住的程度;单个静态接触角缺少液滴移动阻力和浸水后排水状态的信息。对于催化电极,反应液中气泡覆盖、表面电位和离子吸附还会改变局部润湿环境,空气中的水滴接触角与工作电位下的界面状态对应不同条件。

在自由悬挂石墨烯的水中气泡测量中,不同层数及等离子体处理样品的接触角可直接比较;相对湿度由 50%升到 98%时,该组样品测得的水侧接触角下降。这里的变化发生在特定气泡法与样品处理条件下,其他碳表面还需核对其吸附物和测量介质。

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图7. 自由悬挂石墨烯不同层数与处理状态的水接触角,以及相对湿度变化下的测量结果。DOI:10.1038/s41467-018-06608-0

比较两个材料的亲水性,至少应把测试介质、表面处理、粗糙形貌和接触角定义放在同一条件下。若要追问分子原因,官能团的吸附位点、水的取向和密度分布可分别回答局部结合与水层重排;接触角仍要由含液相、气相和表面缺陷的界面自由能决定。

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