说明:本文华算科技主要介绍电催化测试中反复出现的八个基础概念:过电位、极化、双电层、双电层电容、电化学活性面积、交换电流密度、Tafel 斜率和电荷转移电阻,从平衡电位出发说明它们各自描述电极界面的哪一个量、由哪种测量得到,以及彼此之间怎样换算。
一次电催化测试通常在三电极体系中完成:工作电极上发生目标反应,对电极负责闭合电流回路,参比电极提供一个电位固定的参照点。
恒电位仪设定的是工作电极相对参比电极的电位差,记录的是流过工作电极的电流,所谓电极电位指的就是这个相对参比电极的电位差。
参比电极的种类决定了电位数值的零点,为了让不同 pH 下的数据互相比较,文献中常把测得的电位换算到可逆氢电极(RHE)标度。以 Hg/HgO 参比电极为例,换算式为 E(RHE) = E(Hg/HgO) + 0.098 V + 0.059·pH,其中 0.059 V 是 25 °C 下每单位 pH 对应的电位移动。

电极电位有了标度以后,还需要一个参照值来判断反应有没有被驱动,这个参照值就是平衡电位。平衡电位是氧化方向与还原方向速率相等、净电流为零时的电极电位,由能斯特方程给出:
Eeq = E° + (RT/nF)·ln(aOx/aRed)
其中 E° 是标准电极电位,a 是氧化态和还原态的活度,n 是转移电子数。
氢电极反应 2H+ + 2e− ⇌ H2 的平衡电位在 RHE 标度下恒为 0 V,水氧化生成氧气的平衡电位为 1.23 V vs RHE,两者相差的 1.23 V 就是电解水的理论分解电压。
把电极电位设定到平衡电位以外,界面上才出现净反应,设定电位与平衡电位之差就是过电位:η = E − Eeq。阴极反应要求电位负于平衡电位,η 取负值;阳极反应要求电位正于平衡电位,η 取正值;比较活性时习惯只写绝对值。
过电位属于被设定的量,它回答的是“为了让反应以某个速率进行,电位被推离平衡多远”,而速率本身由随后记录的电流表达。在氢气饱和的电解液中让工作电极从 0 V vs RHE 向正、负两个方向偏离,正方向出现氢氧化电流,负方向出现氢析出电流,两支电流在平衡电位处交汇于零。

交汇点两侧的电流随过电位按指数规律上升,上升的快慢由催化剂决定,同一过电位(50 mV)下 Ni/N-CNT 的氢氧化质量活性是未负载 Ni 纳米颗粒的 33 倍。
比较活性时习惯固定一个电流密度,读取达到它所需的过电位:析氧反应常取 10 mA cm−2,面向工业电解的研究则取 500 或 1000 mA cm−2。
NiMoN/NiFe LDH 在 1 M KOH 中达到 1000 mA cm−2 需要 266 mV 过电位,NiFe LDH 需要 406 mV,NiMoN 需要 575 mV。
同一个过电位数值里包含三种来源不同的电压损失。电荷转移步骤需要越过活化能垒,为此付出的部分称为活化过电位;反应物在界面附近被消耗、浓度低于本体溶液,能斯特方程中的活度项随之改变,由此产生的部分称为浓差过电位;电流流过电解液和接触电阻时还有一项欧姆压降 i·Ru,它并不来自电极界面,却同样计入恒电位仪读到的电位差。
三者随电流密度的变化规律不同:活化过电位随电流按对数增长,欧姆压降随电流线性增长,浓差过电位在电流接近传质极限时急剧增大。
欧姆压降不反映催化剂本身,比较活性前要先把它扣除,做法是用阻抗谱测出未补偿电阻 Ru,再从测得电位中减去 i·Ru,文献里的iR 校正或“85% iR 补偿”指的就是这一步。在
两电极的电解槽里,同样的分解写成 Ecell = Erev + ηkin + ηohm + ηmt:可逆电压 Erev 在 25 °C 为 1.23 V,欧姆项等于电流密度乘以高频电阻,动力学项按 Tafel 关系随电流对数增长,传质项由总电压减去前三项得到。质子交换膜电解槽在 4 A cm−2 下的电池电压约 2.2 V,其中动力学过电位只有 0.25–0.43 V。

把扣除欧姆压降后的电压改画在电流密度的对数坐标上,动力学过电位随 log j 呈直线上升,这条直线就是 Tafel 直线:无离聚物 Ir 电极的斜率为 58 mV dec−1,喷涂电极为 72 mV dec−1,斜率越小,电流每增大十倍所需的额外电压越少。
电流一旦流过,电极电位就偏离平衡电位,这种现象称为极化;过电位是极化的量度,极化则是这种偏离本身以及造成偏离的过程。
按来源划分,极化同样分为电化学极化(活化极化)、浓差极化和欧姆极化,与上一节的三项过电位逐项对应。把电位从平衡电位起逐步扫描并记录电流,得到的电流–电位曲线就是极化曲线,线性扫描伏安(LSV)是获取它的最常见方式,扫速通常只有几毫伏每秒,以减小双电层充电电流的贡献。
一条完整的极化曲线通常包含三段。
低过电位段电流随电位按指数上升,电荷转移速率决定电流大小,Tafel 分析就取自这一段;中间段欧姆压降的比例增大,曲线趋于直线;高过电位段反应物供给跟不上消耗,电流趋于一个平台,平台值称为极限电流密度 jlim。
在旋转圆盘电极上,扩散层厚度随转速升高而减薄,极限电流按 Levich 关系与转速的平方根成正比;Koutecky–Levich 方程 1/j = 1/jk + 1/jlim把测得电流分解为动力学电流 jk 与扩散电流两部分,对 1/j 与 ω−1/2 作图,截距给出不受传质限制的动力学电流。
氢氧化反应在 0.1 M KOH 中的 Koutecky–Levich 斜率约为 5.2 cm2 mA−1 s−1/2,与两电子转移的理论值 4.87 相近,平台电流的确由氢气扩散控制。

平台段之后决定电流的量已经从电荷转移速率换成了氢气向电极表面的扩散通量。极化曲线记录的电流里还有一部分与任何反应都无关:电位每改变一次,界面两侧的电荷排布都要重新调整,这部分充电电流来自电极与电解液之间的双电层。
金属电极浸入电解液后,金属一侧过剩或亏缺的电子集中在表面,溶液一侧由带相反电荷的离子和取向排列的水分子来平衡,两层电荷隔着约一纳米相对分布,构成双电层。
紧贴电极的第一层水分子和特性吸附的离子构成内亥姆霍兹层(IHL),保留完整水合壳的离子中心所在的平面构成外亥姆霍兹层(OHL),更外侧受热运动支配、浓度沿法线指数衰减的离子区称为扩散层。
Ag(111)/NaF 界面的分子模拟给出的尺度是:第一层水位于距表面约 3 Å 处,水合离子的电荷密度峰位于约 5 Å 处;扩散层的厚度由电解质浓度决定,1 M 溶液中只有零点几纳米,毫摩尔级稀溶液中可达几纳米。

电极带何种电荷取决于电位相对零电荷电位(PZC)的位置:电位负于 PZC 时表面带负电,水合 Na+ 在 OHL 富集而不脱去水合壳;电位正于 PZC 时表面带正电,F− 这类阴离子会脱去部分水合壳直接吸附到 IHL。
离子与电极之间的电荷分离距离越小,同样的电位差对应的界面电场越强,用冠醚络合 Na+ 把这个距离放大约 1.5 倍后,Ag(111) 上 CO2 还原生成 CO 的分电流密度随冠醚浓度对数下降。

把电解质浓度也作为变量,界面水和离子的排布可归为三种结构相:阴极电位下 O–H 键朝向电极的 H 朝下水相,PZC 附近平行或 H 朝上的水相,阳极电位下脱水合阴离子在表面凝聚的阴离子凝聚相。
表面电荷密度 σ 对电位 E 的曲线在 PZC 处穿过零点,扫过相界时出现 S 形拐折;储存电荷随电位的变化率就是电容,它把界面结构与一个可直接测量的电学量联系起来。
双电层电容定义为 C = ∂σ/∂E,即单位电位变化引起的表面电荷密度变化,数值由电荷分离距离和界面水的有效介电常数共同决定。
PZC 附近离子稀少、水分子取向无序,电容出现极小值,Ag(111) 在 3 mM NaF 中该极小值约 20 μF cm−2;电位偏离 PZC 后阴离子特性吸附或水偶极集体翻转,电容曲线在阳极侧和阴极侧各出现一个峰,形成驼峰形;电解质浓度升高时阳极峰向低电位移动并与阴极峰合并,曲线由驼峰形转为钟形。
光滑金属表面的双电层电容一般以 20 μF cm−2 作为参考值,粗糙电极的实测值与它的比值就是粗糙度因子。
在循环伏安测试中,双电层充放电表现为与扫速成正比的电容电流:ic = Cdl·v。选一段没有法拉第反应的电位窗口,例如析氧催化剂在 1 M KOH 中的 0.15–0.25 V vs RHE,以 10–100 mV s−1 范围内的一组扫速记录 CV,取窗口中点处阳极与阴极电流密度之差 Δj 的一半对扫速作图,直线斜率就是 Cdl。
NiMoN/NiFe LDH 系列电极由非法拉第区 CV 得到 4.1–11.4 mF cm−2,比光滑金属的参考值高两到三个数量级,差别来自泡沫镍基底上纳米阵列提供的远大于几何面积的真实面积。

把几何面积归一化的电流换成 ECSA 归一化的电流,催化剂之间的差距会随之改变:NiMoN/NiFe LDH 按几何面积的优势有一部分来自更大的 Cdl,按 ECSA 归一化后它在 1.5 V vs RHE 附近的电流密度仍高于其余样品,这时才分离出位点本身的活性差别。Cdl 越大,同一几何电流对应的单位真实面积电流越小。
Cdl 能换算成面积,前提是每平方厘米真实界面贡献的电容近似恒定,用测得的 Cdl 除以这个比电容 Cs 就得到电化学活性面积:ECSA = Cdl/Cs。Cs 依赖电解液与表面状态,1 M KOH 中常取 0.040 mF cm−2,不同文献的 ECSA 只有在 Cs 相同时才能直接比较。
对铂族金属还有两种基于吸附电荷的方法:氢欠电位沉积区的电荷除以多晶铂单层氢吸附的 210 μC cm−2,或一氧化碳剥离电荷除以对应的参考电荷;镍电极则用 OH 脱附电荷,参考值为 514 μC cm−2。
三种方法测的都是能被电解液和探针分子接触到的表面,与 BET 得到的气体可达表面并不相同。
在质子交换膜电解槽的 Ir 阳极上,Cdl 随 Ir 负载量从 0.033 增至 0.085 mg cm−2 而上升,负载量再增加时趋于饱和,激光粗化的传输层则进一步增大 Cdl,电容跟随的正是催化剂与电解质接触的真实面积。

有了 ECSA,几何面积归一化的电流就能换算成比活性:jECSA = jgeo·Ageo/ECSA,它剔除了粗糙度和负载量带来的表观差异;按催化剂质量归一化则得到质量活性,反映单位贵金属的产出。
掺入不同亲氧金属原子的 PtRu 纳米线在 50 mV vs RHE 下的 ECSA 介于 50–75 m2 g−1,In 掺杂样品的比活性和质量活性都最高,Ni 掺杂样品的 ECSA 与两种活性都最低;In、Zn 双掺杂后质量活性达到 10.2 A mg−1,接近商业 Pt/C(0.27 A mg−1)的 40 倍。

比活性与质量活性对应的问题不同:前者对应位点的本征活性,后者对应材料利用效率。归一化只给出“每单位面积有多少电流”;电流随过电位增长的快慢由 Butler–Volmer 方程描述,交换电流密度、Tafel 斜率和电荷转移电阻分别取自这个方程的不同区段。
Butler–Volmer 方程把净电流密度写成氧化分支与还原分支之差:j = j0[exp(αaFη/RT) − exp(−αcFη/RT)],其中 αa、αc 是阳极和阴极传递系数,对单电子步骤两者之和为 1。
η = 0 时两支大小相等、方向相反,净电流为零,但每一支各自的电流密度并不为零,这个数值就是交换电流密度 j0:它描述平衡状态下界面上氧化与还原两个方向同时进行的速率,j0 越大,达到同一净电流所需的过电位越小。
Ni/N-CNT 在 0.1 M KOH 中氢氧化的 j0 为 0.028 mA cm−2(按 Ni 表面积归一化),是未负载 Ni 纳米颗粒的 21 倍;按氢结合能建立的活性模型算出的 j0 与实测值在同一数量级内一致,载体通过改变 Ni 位点的氢结合能改变了这个平衡速率。

j0 有两种测法。|η| 小于约 10 mV 时,指数项可以展开成线性形式 j ≈ j0·Fη/RT,对这段微极化区作线性拟合,斜率直接给出 j0;过电位再大一些,则把扣除传质影响后的动力学电流 jk 代入完整的 Butler–Volmer 方程拟合,同时得到 j0 和 α。
Ni/N-CNT 的两种拟合结果一致,α 在 0.4–0.5 之间,氢氧化与氢析出两支接近对称。交换电流密度通常按 ECSA 归一化,按几何面积归一化的数值把粗糙度也算了进去。
|η| 增大到几十毫伏以上后,Butler–Volmer 方程中反向的一支可以忽略,剩下的一支取对数后成为直线:η = a + b·log|j|,这就是 Tafel 方程。
斜率 b = 2.303RT/(αF)的单位是 mV dec−1,含义是电流每增大十倍所需的过电位增量;25 °C 下 2.303RT/F = 59 mV,α = 0.5 时 b ≈ 118 mV dec−1。截距 a 对应 log j0,把 Tafel 直线外推到 η = 0 就得到交换电流密度,与上一节的微极化拟合互相验证。
Tafel 斜率被用来推测反应机理,依据是不同的速率决定步骤给出不同的 b。以氢析出为例,Volmer 步骤(H+ + e− → Had)决速时 b 约为 120 mV dec−1,Heyrovsky 步骤(Had + H+ + e− → H2)决速时约为 40 mV dec−1,Tafel 步骤(2Had → H2)决速时约为 30 mV dec−1。
三个经典数值都假定吸附氢的覆盖度接近 0 或接近 1;微观动力学模拟表明,覆盖度随电位从 0 升到 1 的过程中,Heyrovsky 决速的斜率会从 40 连续变到 120 mV dec−1,Tafel 决速的曲线则在高覆盖度处出现电流平台。
Pt/C 在低过电位段测得 30 mV dec−1,取更宽的过电位范围时测得 120 mV dec−1,差别与取值区间的不同有关。

拟合窗口的选择还受另外两项过程限制。低电流端的电流里混有双电层充电和反向反应的贡献,高电流端则因浓差极化和未补偿的欧姆压降偏离直线,Tafel 直线只在两者之间的电荷转移控制区成立。
NiMoN/NiFe LDH 的析氧 Tafel 斜率为 42 mV dec−1,NiFe LDH 为 83 mV dec−1,NiMoN 为 168 mV dec−1;斜率越小,使电流增大十倍所需的额外过电位越少,三者在 1000 mA cm−2 下的过电位分别为 266、406 和 575 mV。
把 Butler–Volmer 方程在 η = 0 附近对 η 求导,得到的是一个电阻:Rct = RT/(nF·j0),称为电荷转移电阻,按面积归一化时单位为 Ω cm2。j0 越大,同样的小信号扰动引起的电流响应越大,Rct 越小。
电化学阻抗谱(EIS)用幅值约 5 mV 的交流电位扰动来测量这个量。在 Nyquist 图上,溶液电阻 Rs 表现为高频端的实轴截距;Rct 与 Cdl 并联形成一个半圆,半圆直径等于 Rct;半圆顶点对应的角频率等于 1/(RctCdl),这个乘积就是界面的时间常数。
Nyquist 图上半圆的大小首先取决于催化剂本身。CoFeSx 原子团簇修饰的碳纳米管电极在 1.0 M KOH 中的 Rct 约为 4.1 Ω,FeSx/CNT 约为 14.3 Ω,前者的析氧 Tafel 斜率和 20 mA cm−2 处的起始电位同样更低。
测量电位同样影响结果:开路电位下没有净反应,半圆反映的是平衡附近的 j0;施加过电位后,Butler–Volmer 曲线的局部斜率随 η 指数增大,Rct 随之减小。

在一系列电位下逐点测量 EIS,就能得到 Rct 随电位的连续变化。NiMoN/NiFe LDH 在 1.10–1.50 V vs RHE 的 Nyquist 图从低电位下近乎竖直的电容线逐步过渡到半圆,半圆直径随电位升高不断缩小,同一电位下它的半圆始终小于 NiFe LDH。
与之同步的原位 Raman 谱在 1.35 V 以上出现 γ-NiOOH 的 473 和 551 cm−1 特征峰,电位升高时不只是 η 在增大,催化剂表面也在转变为活性相,Rct 的下降同时包含这两种贡献。

以 Ω 为单位的 Rct 还随真实面积缩放:面积翻倍,同一 j0 下的 Rct 减半,而 Tafel 斜率不变。用 Rct 比较两种催化剂前,要么把它乘以各自的 ECSA 换算成 Ω cm2,要么确认两者的 Cdl 相近;Rct 更小的电极可能只是真实面积更大。
NiMoN/NiFe LDH 的 Cdl 是 NiMoN 的两倍以上,它在 Nyquist 图上更小的半圆,就有一部分可归因于更大的真实面积。
