材料科学
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如何计算缺陷形成能?
一、缺陷形成能的物理定义与核心公式 缺陷形成能(Defect Formation Energy)是材料科学中量化缺陷热力学稳定性的关键参数,其定义为在完整晶体中引入特定缺陷所需的能…
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Science和Nature中的TiO2
TiO2光催化的定义和基本原理 TiO₂光催化是一种利用光能激发半导体材料(如TiO₂)产生电子-空穴对,从而引发氧化还原反应的技术。其基本原理是:当TiO₂吸收波长小于或等于其禁…
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XRD精修如何确定掺杂的影响?
掺杂的影响 XRD精修是材料科学中用于分析晶体结构的重要手段,通过拟合实验数据与理论计算的衍射图谱,可以获取材料的晶体结构信息。在分析掺杂时,XRD精修可以提供以下关键信息: 晶格…
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XRD精修如何确定晶格畸变?
说明:本次内容主要介绍通过XRD精修判断Mn掺杂对La2NiRu1-xMnxO6双钙钛矿材料的晶体结构和相组成产生的影响,为理解其光学和介电性能的调控机制提供结构基础。想学习更多相…
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XRD精修到底修什么?
什么是XRD精修?XRD精修是一种通过优化模型参数来拟合实验衍射图谱,从而获取晶体结构信息的技术。其核心是Rietveld精修方法,该方法综合考虑衍射峰的位置、强度、形状以及背景等…
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晶体表面能:揭秘原子键合背后的材料稳定性与性能密码
一、表面能的定义与物理意义 1.基本定义表面能(Surface Energy, γ)是描述晶体表面稳定性的重要物理量,其定义为将晶体沿特定晶面分裂并形成单位面积表面所需的能量。计算…
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高熵合金:多元素协同效应重塑材料科学边界——从极端性能到工业革命
高熵合金的定义与核心理论 高熵合金(High-Entropy Alloys, HEAs)是一种由五种或更多主元素以接近等原子比例(5%-35%)组成的多组分合金体系,其核心特征是混…
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同步辐射+纳米级分辨率!ARPES技术如何成为材料电子结构的‘测绘大师’?
前言本次介绍内容是角分辨光电子能谱(ARPES)技术,这是一种能够精确表征动量空间中能带结构的实验技术。文章主要包含ARPES技术及其在材料科学中的关键作用;ARPES的工作原理和…
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晶格应变如何调控催化活性?
一、晶格应变的定义与量化 晶格应变指材料在外力或化学作用下晶格常数发生形变的现象,通常以百分比形式量化。根据应变方向可分为单轴应变(沿特定晶向)和多轴应变。其计算公式为: (ε) …
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一文秒懂光催化异质结
异质结的定义和基本概念 异质结(Heterojunction)是由两种或多种不同半导体材料通过界面耦合形成的复合结构,其核心特征在于能带结构的差异性和界面电场的协同效应。这种结构通…