说明:本文华算科技主要介绍掺杂会改变材料的哪些方面,包括晶格几何、局域结构、电子结构、价态与载流子,以及这些变化最终在能带和光学性质上的体现。

掺杂指把少量外来原子引入主体材料,让它替代主体的某个原子、或进入间隙位置。外来原子和被替代原子在半径、价态、电负性和电子组态上往往有差异,于是它一旦进入主体晶格,就会同时牵动好几类性质。
把这些被改变的对象逐一列清楚,比笼统说“掺杂改善性能“更能看清掺杂在做什么。同样是掺杂,改变的可能主要是导电性,也可能主要是光吸收或催化吸附,区别就在于这几类对象里哪一类被改写得最显著,而这又取决于掺杂元素和主体的具体搭配。
按尺度从大到小、从结构到性质,掺杂改变的对象大致分成五类:晶格几何(晶格常数、晶胞体积)、掺杂原子周围的局域结构(键长、配位)、电子结构(能带、态密度)、价态与载流子,以及由前几项决定的能带与光学性质。
这五类并非彼此独立,它们构成一条因果链:原子尺寸和电荷的失配先改变晶格和局域键长,进而重排电子结构和价态,最后体现在带隙、导电和光吸收上。后面各章按这条链逐层展开,每一层都用对应的表征手段去确认。



图1. 不同 Mn 含量 Zn1-xMnxO的 XRD 图谱,纤锌矿主峰随 Mn 掺入逐步移动而无杂相峰。DOI:10.1038/s41598-023-35456-2
用 Mn掺杂 ZnO 能清楚看到结构上的改变。纯 ZnO 是纤锌矿结构,随 Mn 含量从 0 升到 20%,全部衍射峰位置发生系统移动且没有出现杂相峰,说明 Mn 替位进入了 Zn 的格点、形成固溶体而非析出第二相。
峰位移动对应晶面间距改变,也就是晶格几何被改写。衍射峰移动的方向还能透露晶格是膨胀还是收缩,从而间接反映替位离子与主体离子的半径大小关系。
结构上的改变是后续所有变化的前提,因为外来原子只有确实进入晶格、占据主体格点,才能进一步影响电子分布和价态;如果它只是停在表面或聚集成第二相,对体相电子结构的改写就无从谈起。

掺杂最先改变的是结构。结构改变又分两个尺度:宏观平均的晶格常数,以及掺杂原子近邻的局域键长和配位。两个尺度反映的信息不同,前者是整块晶体的平均响应,后者是掺杂位点周围几个原子层的局部响应,分开测量才能拼出完整的结构图像。
当替位离子与被替代离子半径不同,平均晶格常数会随掺杂量连续变化:替位离子更大则晶格膨胀、晶格常数增大,更小则收缩。这种随成分单调变化的规律,正是判断外来原子是否进入固溶的依据之一。
Mn2+半径大于 Zn2+,因而 Mn 掺入会让 ZnO 晶格胀大。晶格常数随成分的连续变化遵循经验上的维加德规律,偏离这条规律往往提示掺杂量已超过固溶极限、或出现了偏析。



图2. Zn1-xMnxO 晶格常数 a 和 c 随 Mn 含量的变化,两者均随掺杂量近似线性增大。DOI:10.1038/s41598-025-90425-1
晶格常数随掺杂量的变化能定量画出来。Mn 含量从 0 增加到 10% 时,a 轴和 c 轴两个晶格常数都近似线性增大,对应晶胞体积膨胀。这条近似线性的关系说明 Mn 在该范围内稳定替位、掺杂浓度可控,也提示晶格膨胀的幅度可以用来反推实际进入晶格的掺杂量。宏观晶格常数反映的是整块晶体的平均效果。
平均晶格之外,掺杂原子近邻还有一套局域结构:掺杂原子与最近邻原子的键长、配位数和配位多面体形状。它常和平均晶格不一致,因为外来原子会把近邻原子往自己周围拉近或推远,形成只存在于掺杂位点附近的局部畸变。
这套局域信息用 X 射线吸收谱(XANES/EXAFS)来获得,对掺杂原子周围几个埃的范围敏感,能在主体衍射峰几乎不变时仍捕捉到掺杂位点的键长伸缩和配位增减。



图3. Co 掺杂 CeO2 在不同退火温度下的 Co K 边 EXAFS 傅里叶变换(插图为 k 空间信号),近邻配位壳层随温度改变。DOI:10.1038/s41598-017-05046-0
Co 掺杂CeO2 的 EXAFS 展示了局域结构怎样被改写。傅里叶变换谱中第一个主峰对应 Co 与最近邻氧的配位壳层,随退火温度变化,该峰的位置和强度改变,说明 Co–O 键长和配位数在变。
这种局域变化即便在平均晶格几乎不动时也能发生,因此判断掺杂改变了什么,既要看 XRD 给的平均晶格,也要看 EXAFS 给的掺杂原子近邻环境,两者结合才完整。局域键长和配位的畸变还会改变掺杂原子的轨道能级,为下一步电子结构的改写埋下原因。

结构改变之后,紧接着被改写的是电子结构。掺杂原子带来新的电子轨道和电荷,会重排能带和态密度。
掺杂会在能带中引入新能级,或抬高、压低能带边缘,从而改变带隙。替位原子的价电子轨道能量与主体不同,会在禁带中形成杂质能级,或与主体能带杂化使带边移动。
带隙的改变方向和幅度,取决于掺杂元素的轨道能级相对主体的位置:轨道能级处在禁带中会形成可被光激发的中间态,与带边能带接近时则使带边整体移动。



图4. ZnO、ZnO0.99Mn0.01 和 ZnO0.90Mn0.10 的能带结构,带隙 Eg 随 Mn 含量从 0.737 eV 降到 0.633 eV 再到 0 eV。DOI:10.1038/s41598-025-90425-1
Mn 掺杂ZnO 的能带计算把这种改变画得很清楚。从纯 ZnO 到 Mn含量 1% 再到 10%,带隙 Eg 从 0.737 eV 减小到 0.633 eV,再到 10% 时闭合为 0。Mn 的 3d 轨道在带隙中引入新态并与主体能带杂化,使导带和价带边缘靠拢。
带隙缩小意味着电子从价带跃迁到导带需要的能量下降,这会直接改变材料的导电和光吸收行为,也是许多掺杂体系把光响应从紫外拓展到可见区的原因。
能带之外,态密度描述每个能量上可容纳的电子状态数目。掺杂原子的轨道会在态密度中贡献新的峰,改变费米能级附近的状态分布。掺杂原子的配位方式不同,轨道劈裂和能级位置也不同,态密度形态随之改变。费米能级附近态密度的多少,直接关系到材料是更像绝缘体、半导体还是金属。



图5. Co 掺杂 CeO2 在八面体 Co–O6 和平面四方 Co–O4 两种配位下的态密度,带隙分别约 2.5 eV 和 0.9 eV。DOI:10.1038/s41598-017-05046-0
同一种掺杂原子、不同配位会给出不同态密度。Co 处在八面体 Co–O6配位时,态密度中费米能级附近的间隙约 2.5 eV;换成平面四方 Co–O4 配位时,间隙缩到约 0.9 eV。
掺杂原子的局域配位通过改变轨道劈裂,重排了费米能级附近的态密度和间隙。这把第二章的局域结构和本章的电子结构连了起来:局域配位是因,态密度变化是果。换一种配位,同一掺杂元素就给出不同的间隙宽度和费米能级附近状态,对应的导电与吸附行为也随之不同。

掺杂还会改变材料里的电荷分布,体现在主体原子的价态和可自由移动的载流子上。前者关乎束缚在原子上的电子如何重新分配,后者关乎有多少电子或空穴能参与导电,两者都由掺杂原子与主体的价态差驱动。
当掺杂原子的价态与被替代原子不同(异价掺杂),体系要维持电中性,就得通过电荷补偿来平衡:可能改变主体某些原子的价态,或产生空位等缺陷。低价阳离子替位会促使邻近主体阳离子升价,或形成阴离子空位来补偿电荷。价态改变可由 X 射线光电子能谱(XPS)的峰位和分峰看出来。



图6. Se 掺杂 TiO2 的 XPS:(a) Ti 2p 中除 Ti4+ 主峰外出现 Ti3+ 分量,(b) 退火后以 Ti4+ 为主,(c) O 1s,(d) Se 3d。DOI:10.1038/s41598-018-27135-4
Se 掺杂TiO2 的 Ti 2p 谱体现了价态改变。未充分氧化的样品里,Ti 2p 除了 Ti4+ 主峰,还在低结合能侧分出 Ti3+ 分量,对应掺杂和氧空位带来的部分钛被还原;退火后 Ti3+ 减少、重新以 Ti4+ 为主。主体阳离子出现混合价态,是掺杂通过电荷补偿改写电荷分布的典型信号。
异价掺杂还会向材料注入载流子:高价替位低价相当于施主、贡献电子(n 型),低价替位高价相当于受主、贡献空穴(p 型)。载流子浓度和类型决定材料的导电能力,可用霍尔测试直接得到其数值和符号。掺杂常被用作半导体导电类型和浓度的主要调节手段。



图7. F 掺杂 Mg0.51Zn0.49O:(a) F 浓度深度分布,(b) 变温霍尔测得载流子浓度随 1000/T 变化,给出两个施主能级。DOI:10.1038/srep15516
F 掺杂MgZnO 展示了载流子的引入。F 作为施主掺入后,载流子浓度相对未掺杂大幅提高、电阻率显著下降,变温霍尔结果还分出 17 meV 和 74 meV 两个施主能级。
这说明掺杂不只改变结构和能带,还直接决定了有多少可自由移动的电荷、以及它们是电子还是空穴,这一类改变把电子结构和宏观电学性质连了起来。

前面几类改变最终会汇聚到可测量的宏观性质上。带隙的变化会同时反映在光吸收和发光上,于是光学测量成了反推掺杂效果的常用手段。光吸收边的位置对带隙敏感,测量也相对简便,因此常被用作掺杂是否改变电子结构的快速判断。
当掺杂缩小带隙,材料的光吸收边会向长波(低能量)方向移动,吸收谱据此可换算出光学带隙。把不同掺杂量的吸收数据用 Tauc 关系作图,外推线性段到横轴就得到各样品的带隙值。光学带隙随掺杂量的变化趋势,可以和能带计算的带隙互相印证,也能反过来提示掺杂是否按预期进入晶格。



图8. 不同 Mn 含量 ZnO 的 Tauc 图((αhν)2 对能量),插图为光学带隙 Eg 随 Mn 含量减小。DOI:10.1038/s41598-023-35456-2
Mn 掺杂ZnO 的 Tauc 图把带隙改变量化了出来。随 Mn 含量从 0 增加到 20%,外推得到的光学带隙从约 3.3 eV 单调降到约 2.75 eV,与能带计算给出的带隙缩小趋势一致。这条光学带隙曲线,正是前面晶格膨胀、局域配位、能带与态密度重排、价态和载流子改变层层传递后的可测结果。
把五类改变连起来看,掺杂改变的是一条从结构到性质的链:外来原子的尺寸和电荷失配先改写晶格几何和局域键长配位,局域配位重排能带与态密度,异价补偿改变价态并注入载流子,这些再汇聚成带隙、导电和光吸收等可测性质的变化。理解掺杂在改变什么,就是沿这条链逐层确认每一处被改写的对象。
