循环伏安(CV)让工作电极电位随时间线性往返扫描,扫速 v规定了电位走过一段区间所用的时间:扫过 100 mV,10 mV s−1 下需要 10 s,1 V s−1 下只有 0.1 s。
扫速每提高 100 倍,留给电极反应和传质的时间就缩短 100 倍。记录到的电流由两部分组成:电对得失电子产生的法拉第电流,以及双电层充放电产生的非法拉第电流。

溶液中扩散的可逆电对给出不对称的峰:电位越过式量电位后表面反应物迅速耗尽,扩散层随时间增厚,电流先升后降。扩散系数取 10−5 cm2 s−1、按 (Dt)1/2 估算,扩散层厚度在 10 s 内约达 100 μm,0.1 s 内只有约 10 μm。
可逆条件下峰高按 v1/2 增大,峰形却不随扫速改变:峰电位与半峰电位之差 Ep − Ep/2 在 25 ℃ 恒为 2.20RT/nF,即约 56.5/n mV。峰电流与 v1/2 的比值同样保持不变。
吸附在电极表面的可逆电对不受扩散限制,峰呈对称的钟形,半峰宽为 90.6/n mV,峰电流与 v 成正比,氧化峰与还原峰电位重合。
所谓峰变宽,指 Ep − Ep/2 或半峰宽超过上述数值;峰变钝,指峰顶变平、峰相对基线的突出程度下降。扫速升高后出现这两种变化,说明有某个过程跟不上缩短后的时间尺度。
双电层充电电流为什么让峰显得更钝?
双电层充电电流ic = Cdlv,与扫速成正比,扩散控制的峰电流只按 v1/2 增大,二者之比随 v1/2 上升:扫速提高 10 倍,充电电流相对峰电流约放大 3.2 倍。峰于是叠在越来越高的矩形背景上,峰顶相对基线的高度比例下降。

充电电流还需要时间建立。双电层电容与电阻串联时,电流在每次换向后按 RC 时间常数逐渐趋近 Cdlv,这段过渡在电位轴上占据数倍于 v·RC 的宽度,扫速越高,过渡段越宽。
模拟中扩散层电阻 Rdl 取 300 Ω 时,理想的矩形曲线在换向处被拉成圆角,整体接近叶片形;电容偏离理想状态、常相位元件指数降到 0.9 和 0.8 时,矩形的上下边也向一侧倾斜。
电子转移跟不上扫描时,峰为什么变宽?
电子转移的快慢要与扫描的时间尺度对比才有意义,常用无量纲参数κ = ks(RT/DvF)1/2表示,ks 为标准速率常数。以 [Ru(NH3)6]3+/2+ 为例,ks 为 0.05 cm s−1、D 为 9 × 10−6 cm2 s−1、293 K 时,20 mV s−1 下 κ 约为 19。扫速升到 1、10 和 100 V s−1 时,κ 依次降为约 2.6、0.84 和 0.26。

κ 为 2.53、5.1 和 50.1 的模拟曲线彼此重合,已与完全可逆的曲线难以区分;κ 降到 0.5,氧化峰与还原峰向两侧分开;κ 为 0.1 时,两峰相距约 0.3 V,电流随电位缓慢爬升,峰形拖长、明显不对称。同一个电对在低扫速下是可逆峰,只要扫速足够高,κ 就会落入这一准可逆区间。

κ 继续减小到完全不可逆的极限,峰宽由传递系数 α 决定:Ep − Ep/2 = 47.7/(αn) mV,α 取 0.5、n 取 1 时为 95.4 mV,约为可逆值的 1.7 倍;同样条件下峰电流只有可逆峰的约 0.79 倍,峰电位随扫速每增大 10 倍移动约 59 mV。
未补偿电阻为什么随扫速放大峰宽?
恒电位仪控制的是工作电极与参比电极之间的总电位,其中一部分消耗在两者之间的溶液电阻 Ru 上,界面实际电位比设定值少 iRu。
电流越大,电位滞后越多,曲线上升段被拉长、峰顶后移。扩散控制下扫速提高 100 倍,峰电流增大 10 倍;若峰电流原为 100 μA、Ru 为 100 Ω,iRu 就从 10 mV 增至 100 mV。
iRu 造成的展宽与动力学展宽在曲线上相似,但两者的依赖关系不同:iRu 随电流绝对值变化,降低电活性物质浓度或缩小电极面积会使其减小;动力学展宽只由 κ 决定,与浓度无关。
减小 iRu 的常用办法是正反馈补偿,通常只补偿测得 Ru 的 80%–90%,补偿过度会使恒电位仪振荡。另一条途径是缩小电极:超微电极上的电流只有纳安量级,iRu 随之降到毫伏以下,扫速因此可以提高到每秒数千伏以上。
细胞色素 c通过静电作用固定在 11-巯基十一烷酸/6-巯基己醇修饰的银电极上,在 pH 8.0 的 50 mM 磷酸钾缓冲液中以 150 mV s−1 至 3 V s−1 扫描。法拉第峰电流与充电电流都随扫速增大。到 3 V s−1 时,氧化峰和还原峰只是叠在宽大矩形背景上的两个平缓鼓包。

表面电对不经过扩散,低扫速下氧化峰与还原峰电位几乎重合;扫速超过电子转移所能跟上的范围后,两峰向两侧分开,该体系的分开起点约在 0.25 V s−1。按Laviron 分析,峰电位对 log v 作图呈喇叭形,分开的起点和斜率分别对应电子转移速率常数和传递系数。该体系得到的传递系数为 0.51–0.52。
扫速最高的一段数据还混有溶液电阻的贡献。作者指出,高扫速下充电电流同步增大,溶液电阻带来的 iR 降也难以完全补偿,因此 log v 大于 0 的数据点中,两峰的分开量还包含 iR 降的贡献。
