原子级表征
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TEM三种常用成像技术对比:明场像(BF)、暗场像(DF)、高角环形暗场像(HAADF)的核心参数与应用实例
说明:本文华算科技介绍了TEM中明场像(BF)、暗场像(DF)与高角环形暗场像(HAADF)的成像原理,明确三者在衬度来源、分辨率、图像特征上的核心差异,还能了解各自适用的样品类型…
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叠层成像技术突破限制:在未校正设备实现 0.44 埃超高分辨率
总结:本文详细介绍了叠层成像技术的技术原理(通过采集不同探针位置的会聚束衍射图样,结合计算重构消除像差影响)、在未校正扫描透射电镜(STEM)中的突破性应用(对扭转二硒化钨双分子层…