扫描透射电镜(STEM)
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一文读懂球差电镜!
简介 球差透射电镜相对于传统的TEM,由于消减了像差,分辨率能达到埃级,甚至亚埃级别。可得到高分辨率像(HRTEM)、高角环形暗场(HAADF)、电子能量损失谱(EELS)、X射线…
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扫描透射电子显微镜(STEM)之基本原理与应用
1、引言自古以来,人类从未停止过对微观世界的探索,采用波长更短的电子束为光源的电子显微仪器打破了可见光的衍射极限,为人类打开了观察纳米世界的大门,使人们看到了在纳米尺度上研究单一原…
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透射电镜(TEM)详解:从原理、构造到样品制备,全方位掌握高分辨率微观表征技术
总结:本文全面介绍了透射电镜TEM的核心知识体系,包括发展历程、基本原理、核心构造、成像机制与衬度类型,详细阐述了选区电子衍射技术及针对粉末、块状、高分子等不同类型样品的制备方法,…
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全是干货!手把手教你电极材料TEM表征
总结:本文围绕电极材料的透射电子显微镜TEM表征展开,详细介绍了TEM的核心作用、工作原理、结构组成与分类,对比了SEM与TEM的异同点,重点提供了基于Digital Microg…
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半导体异质结构缺陷电镜观察:从位错表征到衍生技术,表征材料应变诱导缺陷
总结:本文围绕半导体异质结构中位错等应变诱导缺陷的电镜观察展开,详细介绍了半导体异质结构中应变诱导缺陷的产生机制,系统阐述了透射电子显微镜TEM的多种成像技术——双束条件TBC成像…
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透射电镜样品离子减薄技术:低能损伤控制与非晶化研究
总结:本文围绕透射电镜(TEM)样品的离子减薄制备技术展开,详细介绍了离子减薄过程中损伤(如非晶层形成、表面粗糙化)的产生机制,系统梳理了硅和GaAs材料在不同离子能量、入射角下的…
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冷冻电镜断层成像(Cryo-ET)技术解读:技术原理、优劣分析、样品制备、数据采集及图像解读
总结:本文详细介绍了冷冻电镜断层成像(Cryo-ET)技术的核心体系,包括技术原理、核心优势与局限性,系统阐述了技术全流程——样品制备、数据采集、断层重建,以及子断层图像平均法(S…
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电子叠层衍射成像技术解读——一文读懂原理、优势与挑战,助力亚埃级表征
总结:本文详细介绍了电子叠层衍射成像(Ptychography)技术的核心原理、技术关键、显著优势,系统阐述了该技术与扫描透射电镜(STEM)、四维(4D)STEM的结合应用,同时…
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碳材料TEM研究全历程:从早期晶格成像到原子级解析,见证石墨、石墨烯的科学突破
总结:本文以时间为主线,详细介绍了透射电子显微镜(TEM)技术的发展与碳材料研究相互促进的历史进程,涵盖TEM技术的核心演进,以及其在碳材料领域的关键成果——从20世纪40年代观察…
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电镜(TEM/SEM)中的辐照损伤——一文读懂辐照损伤类型、阈值规律与防护策略
总结:本文详细介绍了透射电子显微镜(TEM)与扫描电子显微镜(SEM)中辐照损伤的核心机制——包括弹性散射引发的原子位移、电子束溅射,非弹性散射导致的电子束加热、静电充电、无机/有…
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原位 TEM 样品杆解析:加热/气氛/液相样品杆到MEMS创新,解锁材料动态观测新可能
总结:本文详细介绍了原位透射电镜(In-situ TEM)技术中核心组件——样品杆的发展历程、分类及应用。涵盖传统加热样品杆、原位气氛加热样品杆、原位液相样品杆,重点阐述了微机电系…
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透射电镜(TEM)赋能半导体:器件表征、成分分析及故障定位
总结:本文介绍了透射电子显微镜(TEM)在半导体行业的核心应用价值、关键成像技术,以及元素分析技术(EDS、EELS、EFTEM),还阐述了电子断层摄影术、电子全息术等先进技术在半…
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TEM(STEM)成像技术演进与4D-STEM全解析:从传统模式到前沿突破
总结:本文介绍了透射电子显微镜(TEM)及扫描透射电子显微镜(STEM)的技术发展历程(从发明初期到球差校正、原位/环境TEM、冷冻电镜等技术突破)、传统STEM成像模式(BF、A…
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扫描透射电镜(STEM)如何实现单原子成像,推动电子显微学革命
总结:本文介绍了扫描透射电镜(STEM)的发展背景、早期技术探索,重点阐述了Albert Crewe在STEM领域的开创性贡献——包括提出使用场发射电子枪(FEG)解决电子源亮度不…
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扫描透射电镜(STEM):商业历程与技术进步,从早期设计到原子分辨率突破
总结:本文介绍了扫描透射电镜(STEM)的商业发展历程与关键技术进步,重点阐述了像差校正技术的突破如何推动 STEM分辨率迈向亚埃级,还提及低电压STEM在二维材料表征中的应用,及…
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原位透射电子显微镜(In-situ TEM):材料动态表征与应用场景解析
总结:本文详细介绍了原位透射电子显微镜(In-situ TEM)技术的核心特点(可在外部刺激如温度、应力、电场等条件下动态观察材料原子/纳米级行为)、实验设计逻辑,以及在相变、电池…
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TEM经典论文解读(1970s):调幅分解理论和高分辨成像
总结:本文介绍了1970年代透射电子显微镜(TEM)领域的多篇经典论文,重点解读了调幅分解理论在Cu-Ni-Fe合金中的实验验证、高分辨透射电子显微镜(HRTEM)成像技术的关键进…
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现代电子显微学待解难题梳理:从衬度差异到结构反推
总结:本文介绍了现代电子显微学领域虽在分辨率提升(如球差校正技术实现亚埃级分辨率)方面取得显著进展,但仍存在的一系列尚未解决的核心问题,包括理论图像模拟与实验显微像衬度差异大、电子…
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4D-STEM技术详解4:探测器发展、数据处理与材料表征应用
总结:本文详细介绍了4D-STEM技术的定义(通过阵列化探测器记录扫描过程中每个探针位置的二维衍射图案,形成四维数据集)、命名规则与术语演变,阐述了其探测器的发展历程、核心计算方法…
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叠层成像技术突破限制:在未校正设备实现 0.44 埃超高分辨率
总结:本文详细介绍了叠层成像技术的技术原理(通过采集不同探针位置的会聚束衍射图样,结合计算重构消除像差影响)、在未校正扫描透射电镜(STEM)中的突破性应用(对扭转二硒化钨双分子层…